[發(fā)明專利]PI線選取和采樣方法和裝置以及CT圖像重建方法和裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010257010.5 | 申請日: | 2010-08-18 |
| 公開(公告)號: | CN102376096A | 公開(公告)日: | 2012-03-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 刑宇翔;張麗;陳志強(qiáng);張文宇;趙自然;肖永順;李亮;黃志峰 | 申請(專利權(quán))人: | 清華大學(xué);同方威視技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T11/00 | 分類號: | G06T11/00;A61B6/03;G01N23/04 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 張曉冬;李家麟 |
| 地址: | 10008*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | pi 選取 采樣 方法 裝置 以及 ct 圖像 重建 | ||
1.一種PI線選取和采樣方法,其特征在于,包括步驟:
在螺旋軌道上選取在XY平面上投影互相平行且等間距分布的PI線;
在所述PI線上等距離選取采樣點。
2.如權(quán)利要求1所述的PI線選取和采樣方法,其特征在于,所述步驟在螺旋軌道上選取在XY平面上投影互相平行且等間距分布的PI線進(jìn)一步包括:
選取與重建區(qū)域相切的PI線,其中,λ1E=λ1B+2π-2cos-1(r/R),λ1B表示該P(yáng)I線起始點的光源角度,λ1E表示該P(yáng)I線終止點的光源角度,R表示射線源旋轉(zhuǎn)半徑,r表示重建區(qū)域在XY平面上投影的半徑;
選取下一條PI線使其在X-Y平面的投影與前面所選PI線在X-Y平面的投影平行且相距一距離,直到這些PI線所形成的PI曲面在XY平面的投影覆蓋重建區(qū)域在XY平面的投影且各相鄰PI線間距離相等;
按照上述步驟選取下一PI曲面上的PI線直到這些PI曲面覆蓋了需重建的物體高度,其中,是該P(yáng)I曲面的第一條PI線起始點的光源角度,ΔZ表示兩個相鄰PI曲面與Z軸交點的距離之差。
3.一種CT圖像重建方法,其特征在于,包括步驟:
在螺旋軌道上選取在XY平面上投影相互平行且等間距分布的PI線;
在所述PI線上等距離選取采樣點;
根據(jù)PI線所相關(guān)的投影數(shù)據(jù)重建所述采樣點;
把上述重建結(jié)果采樣成直角坐標(biāo)系下的均勻像素。
4.如權(quán)利要求3所述的CT圖像重建方法,其特征在于,所述步驟在螺旋軌道上選取在XY平面上投影互相平行且等間距分布的PI線進(jìn)一步包括:
選取與重建區(qū)域相切的PI線,其中,λ1E=λ1B+2π-2cos-1(r/R),λ1B表示PI線起始點的光源角度,λ1E表示PI線終止點的光源角度,R為射線源旋轉(zhuǎn)半徑,r表示重建區(qū)域在XY平面投影的半徑;
選取下一條PI線使其在X-Y平面的投影與前面所選PI線在X-Y平面的投影平行且相距一距離,直到這些PI線所形成的PI曲面在XY平面的投影覆蓋重建區(qū)域在XY平面的投影且各相鄰PI線間距離相等;
按照上述步驟選取下一PI曲面上的PI線直到這些PI曲面覆蓋了需重建的物體高度,其中,表示該P(yáng)I曲面的第一條PI線起始點的光源角度,ΔZ表示兩個相鄰PI曲面與Z軸交點的距離之差。
5.如權(quán)利要求3或者4所述的CT圖像重建方法,其特征在于,所述步驟根據(jù)PI線所相關(guān)的投影數(shù)據(jù)重建所述采樣點進(jìn)一步包括:
對PI線所相關(guān)的投影數(shù)據(jù)進(jìn)行微分加權(quán)反投影;
對加權(quán)反投影后的結(jié)果進(jìn)行有限希爾伯特濾波。
6.一種PI線選取和采樣裝置,其特征在于,包括:
PI線選取單元,用于在螺旋軌道上選取在XY平面上投影互相平行且等間距分布的PI線;
采樣點選取單元,用于在所述PI線上等距離選取采樣點。
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