[發明專利]一種金剛石砂帶

無效

• 申請號: 201010256631.1
• 申請日: 2010-08-13
• 公開（公告）號: CN101941187A
• 公開（公告）日: 2011-01-12
• 發明（設計）人: 阮克榮;胡煥文
• 申請（專利權）人: 廈門致力金剛石工具有限公司
• 主分類號: B24D11/00
• 分類號: B24D11/00
• 代理公司: 廈門南強之路專利事務所 35200
• 代理人: 劉勇

技術領域

本發明涉及一種磨削用砂帶，尤其是涉及一種適用于非金屬硬脆材料研磨的金剛石砂帶。

背景技術

金剛石砂帶是由金剛石磨料涂附或者電沉積于金屬或非金屬底材上形成金剛石層，再將金剛石層的底材粘結于橡塑材料基片(基體)上成型的。也可以在橡塑材料基片上先粘結好金屬或非金屬底材，再采取涂附或電沉積的方法將金剛石粉料固結在底材表面上而成型。金剛石砂帶與普通的氧化鋁、碳化硅砂帶的區別在于，金剛石砂帶可用于高效研磨非金屬硬脆材料，如石材、玻璃、陶瓷、寶石等，而普通的砂帶主要用于研磨表面硬度較小的材料，如鋼材、鋁材等。

現有的金剛石砂帶(參見圖1)，其金剛石層是由金剛石磨料11(金剛石顆粒)經粘結劑12粘固(或電沉積)于金屬底材13(或非金屬底材)上形成。再將金剛石層的底材13粘結于橡塑砂帶基體14上表面而成型的。橡塑砂帶基體14橫截面形狀為平直的薄長方形，即兩側邊141和142均為直角邊(即兩側面為垂直面)。由于砂帶機帶動砂帶轉動工作時，工件P的推入方向(箭頭所示)是與砂帶的運動方向(垂直于紙面)呈垂直關系的。當工件P底邊與砂帶邊緣剛接觸的瞬間，會產生較高的沖擊力，易使砂帶邊緣的金剛石層受到損害，在工作一段時間后，砂帶邊緣容易磨損、破裂、剝離甚至脫落。而且又會對工件P造成傷害。在金剛石砂帶的實際使用中，一般都是因金剛石砂帶邊緣的過快磨損、剝離、脫落引起而造成整條砂帶失效。當砂帶邊緣磨損、剝離、脫落后，還會引起工件(如玻璃板)在倒角時發生玻璃碎邊(崩邊)現象，因此一旦砂帶邊緣發生磨損、剝離或脫落現象，盡管其他部分還較好，但整條砂帶必須更換，從而明顯降低金剛石砂帶的使用壽命，造成砂帶浪費嚴重，增加加工成本。

公開號為CN101664904的發明專利申請公開了一種砂布、砂帶用磨料及其制作工藝，其包括：釬料預合金粉末混料后再與金剛石/立方氮化硼配混，冷壓成薄片，薄片釬焊燒結成柔性薄片。將柔性薄片粘結于砂布、砂帶基材表面，即形成耐磨砂布、砂帶。該發明提供了一種可方便快捷將釬焊金剛石/立方氮化硼層應用于制造多種強耐磨砂布、砂帶磨料的方法，其制作工藝簡單易行，無毒，無污染，制備的磨料的耐磨性能大大增強，使得砂布、砂帶工具的工作效率和使用壽命大幅度提高。

發明內容

本發明的目的是為了克服現有金剛石砂帶邊緣容易損壞的現象，提供一種可有效避免金剛石砂帶邊緣損壞現象，顯著提高金剛石砂帶使用壽命，降低加工成本的金剛石砂帶。

本發明設有砂帶基體和磨料層，磨料層設有底材和磨料，底材粘固于砂帶基體的表面，磨料粘固于底材上，其特點在于，砂帶基體的上表面與下表面為平面且平行，砂帶基體的兩側面為斜面或曲面，砂帶基體的兩側面與上表面之間的夾角均大于90°，磨料層覆蓋范圍包括砂帶基體的上表面和兩側面。

所述磨料層可為金剛石層、碳化硅層、碳化硼層或氮化硼等磨料層。

所述磨料層覆蓋范圍還可包括砂帶基體的下表面，即將砂帶基體表面全覆蓋。

所述砂帶基體的兩側面最好結構形狀相同且對稱設置，所述側面可為斜面或曲面；所述斜面可為單斜面或雙斜面，所述雙斜面最好是由2個斜面構成的呈V字形的斜面；所述曲面可為單弧形面或雙弧形面，所述雙弧形面最好是由2個弧形面構成的呈V形的拋物線式的弧形面。

所述砂帶基體的兩側面與上表面和/或下表面之間的過渡為最好均為弧形圓滑過渡。

與現有技術比較，本發明的有益效果如下：

由于砂帶基體兩側面與上表面之間的過渡夾角均大于90°，且為弧形過渡。即砂帶基體兩側面與上表面之間為非垂直面(亦即砂帶基體橫截面的兩側邊為非直角邊)，而且磨料層覆蓋范圍包括砂帶基體的上表面和兩側面。工作時，砂帶與工件(如玻璃板)接觸時，一方面金剛石層的邊緣可避開與玻璃板的直接接觸，另一方面由于弧形圓滑過渡，玻璃板與金剛石砂帶接觸時能起到緩沖作用。這樣的結構可使金剛石砂帶的使用壽命大大增加，且不會損壞玻璃板，加工成本顯著降低。由于本發明還可設計為雙面砂帶(磨料層覆蓋范圍包括砂帶基體的上表面、下表面和兩側面，即將砂帶基體表面全覆蓋)。這樣當上表面金剛石層用畢后，翻一面又有金剛石層可用，可大大延長金鋼石砂帶的使用壽命，顯著節省成本，避免造成浪費，提高金剛石砂帶的性價比。

附圖說明

圖1為現有的金剛石砂帶常規結構及使用狀態示意圖(橫截面結構)。

圖2為本發明實施例1的結構及使用狀態示意圖(橫截面結構)。

圖3為本發明實施例2的結構示意圖(橫截面結構)。

圖4為本發明實施例3的結構示意圖(橫截面結構)。