[發明專利]一種防反射塑料薄膜及其制備方法

無效

• 申請號: 201010255732.7
• 申請日: 2010-08-18
• 公開（公告）號: CN102375164A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發明（設計）人: 樸贊鎬
• 申請（專利權）人: 素塔電子科技(上海)有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;B32B9/04;B32B27/08;B32B27/06
• 代理公司: 北京東正專利代理事務所(普通合伙) 11312
• 代理人: 劉瑜冬

1.一種防反射塑料薄膜，由基材、硬質涂覆層、沉積層和濕法層依次層疊組成，其特征在于，硬質涂覆層覆蓋在基材的上層或下層或上下層，沉積層由依次交替層疊的高折射率沉積層和低折射率沉積層，多次交替沉積形成，其總層數為2～8層，且最上層為高折射率沉積層。

2.根據權利要求1所述的防反射塑料薄膜，其特征在于，高折射率沉積層、低折射率沉積層及濕法層的折射率分別為1.6～2.35、1.35～1.5和1.35～1.5。

3.根據權利要求2所述的防反射塑料薄膜，其特征在于，所述基材是從PMMA，PVC以及PET之中選擇制作的透明薄片；所述硬質涂覆層為由包含重量份為20-50的紫外線固化型丙烯酸酯類低聚物，重量份為1-30的活性稀釋劑，重量份為0.1-10的光聚合引發劑以及重量份為20-80的溶劑的組成物涂覆而成的層，所述組成物用于制造硬質涂覆層；所述高折射率沉積層和所述低折射率沉積層分別由氧化鈦(Ti₂O)和氧化硅(SiO₂)構成；所述濕法層由硅烷偶聯劑構成。

4.根據權利要求3所述的防反射塑料薄膜，其特征在于，所述紫外線固化型丙烯酸酯類低聚物為平均分子量為500-5,000的多官能性氨基甲酸乙酯丙烯酸酯；所述活性稀釋劑在甲基丙烯酸甲酯，乙基丙烯酸甲酯，丙基丙烯酸甲酯，異丙基丙烯酸甲酯，丁基丙烯酸甲酯，異丁基丙烯酸甲酯，辛基丙烯酸甲酯，異辛基丙烯酸甲酯，壬基丙烯酸甲酯，異壬基丙烯酸甲酯，月桂醇丙烯酸甲酯，癸基丙烯酸甲酯，異癸基丙烯酸甲酯，硬脂酰基丙烯酸甲酯，異硬脂酰基丙烯酸甲酯，甲基丙烯酸烯丙酯，2-乙氧基乙基丙烯酸酯，2-乙氧基乙基丙烯酸甲酯，異癸基丙烯酸甲酯，異癸基丙烯酸酯，2-十二烷基硫乙基丙烯酸甲酯，辛基丙烯酸酯，2-甲氧乙基丙烯酸酯，2-羥基乙基丙烯酸甲酯，異辛基丙烯酸酯，氨基甲酸乙酯丙烯酸酯，聚乙二醇二丙烯酸酯，乙二醇二丙烯酸甲酯，二甘醇二丙烯酸甲酯，雙酚A-乙二醇丙烯酸酯，1，4-丁二醇二丙烯酸酯，丙烯酸酯四五角聚硫，三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，雙季戊四醇五丙烯酸酯，雙季戊四醇六丙烯酸酯，季戊四醇三丙烯酸酯，季戊四醇四丙烯酸甲酯以及N-乙烯基吡咯烷酮中選擇一種以上的單官能或者多官能性丙烯酸酯類單體；所述光聚合引發劑為在α-羥基環己基苯基甲酮、1-羥基環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯丙烷-1-1、羥基二甲基苯乙酮、2-甲基-1[4-苯基甲基硫]-2-嗎啉丙烷-1-1、二(2，4，6-三甲基苯甲酰)-苯基氧化膦、2，2-二甲氧-1、2-二苯基乙烷-1-1、2，4，6-三甲基苯甲酰-二苯基-氧膦以及二苯甲酮中選擇的一種以上的化合物；所述硅烷偶聯劑為在四烷氧基硅烷、三烷氧基硅烷以及二烷氧基硅烷中選擇的一種以上的化合物。

5.根據權利要求1所述的防反射塑料薄膜，其特征在于，所述硬質涂覆層的耐刮擦性為4H以上，厚度為3-10μm，所硬質涂覆層組成物中可以添加重量份為0.1-5的硅二丙烯酸酯化合物作為濕潤勻染劑。

6.一種制備防反射塑料薄膜的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

(a)制備硬質涂覆層組成物，該組成物包括20-50重量份的紫外線固化型丙烯酸酯類低聚物，1-30重量份的活性稀釋劑，0.1-10重量份的光聚合引發劑以及20-80重量份的溶劑；

(b)將上步制備的硬質涂覆層組成物涂覆在基材的一面或兩面上，進行光聚合形成硬質涂覆層；

(c)使用真空沉積法、濺射法或離子鍍金法在硬質涂覆層依次交替涂覆高折射率沉積層和低折射率沉積層，其總層數為2～8層，且最上層為高折射率沉積層；

(d)在四烷氧基硅烷、三烷氧基硅烷和二烷氧基硅烷中選擇一種以上化合物，以溶膠凝膠聚合法進行聚合，獲得折射率為1.40-1.47、分子量為1000-3000的聚硅氧烷低聚物；

(e)將上步制備的聚硅氧烷低聚物以濕法沉積涂覆在最上層的高折射率沉積層上。

7.根據權利要求6所述的制備防反射塑料薄膜的方法，其特征在于，步驟(c)中利用真空沉積法、濺射法或離子鍍金法在硬質涂覆層依次交替涂覆高折射率沉積層和低折射率沉積層時，對所層積的高折射率沉積層在50-80℃下，進行3秒-10分鐘的熱處理。

8.根據權利要求6所述的制備防反射塑料薄膜的方法，其特征在于，在所述步驟(d)中，在30-50℃下，進行30分鐘-4小時的聚合；在所述步驟(e)中的聚硅氧烷溶液的固體含量中氧化硅(SiO₂)的濃度具有0.5％-15％，并且濕法沉積涂覆方式為DIP涂覆方式，在70-80℃下，進行1-3小時。