[發(fā)明專利]磁共振成像方法及裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010255677.1
• 申請(qǐng)日: 2010-08-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101915901A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-12-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 翁卓;謝國(guó)喜;鄒超;劉新;邱本勝;熊承義;鄭海榮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院深圳先進(jìn)技術(shù)研究院
• 主分類號(hào): G01R33/48
• 分類號(hào): G01R33/48;G01R33/565
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 吳平

1.一種磁共振成像方法，包括如下步驟：

對(duì)視野校準(zhǔn)掃描得到多個(gè)復(fù)合圖像，對(duì)多個(gè)復(fù)合圖像進(jìn)行絕對(duì)值求和得到求和圖像，并根據(jù)所述多個(gè)復(fù)合圖像及求和圖像計(jì)算得到靈敏度系數(shù)；

校正所述靈敏度系數(shù)，并生成重建圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振成像方法，其特征在于，所述校正所述靈敏度系數(shù)，并生成重建圖像的步驟之前還包括校正所述復(fù)合圖像偏差場(chǎng)的步驟。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁共振成像方法，其特征在于，所述校正所述復(fù)合圖像中的偏差場(chǎng)的步驟是：

對(duì)復(fù)合圖像預(yù)處理，得到掩模；

將所述掩模作用于復(fù)合圖像中以抽取組織部分圖像，并對(duì)所述組織部分圖像進(jìn)行對(duì)數(shù)變換，得到加性偏差場(chǎng)；

根據(jù)加性偏差場(chǎng)和掩模，通過(guò)高斯低通濾波器和歸一化卷積得到初步估計(jì)的偏差場(chǎng)；

對(duì)初步估計(jì)的偏差場(chǎng)進(jìn)行B樣條擬合得到精確估計(jì)的偏差場(chǎng)，并通過(guò)測(cè)量得到的圖像灰度與所述精確估計(jì)的偏差場(chǎng)之比得到校正的復(fù)合圖像。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁共振成像方法，其特征在于，所述對(duì)復(fù)合圖像預(yù)處理，得到掩膜的步驟是：

在復(fù)合圖像中測(cè)量得到灰度圖像，通過(guò)所述灰度圖像得到所述灰度圖像中點(diǎn)的亮度最大值，設(shè)定閾值為最大亮度的百分比，低于閾值部分設(shè)為0，組織部分設(shè)為1，形成二值圖像，得到掩膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁共振成像方法，其特征在于，所述校正所述靈敏度系數(shù)，并生成重建圖像的步驟是：

通過(guò)參考圖像與在視野掃描中獲得的復(fù)合圖像的擬合得到殘差；

引入退火參數(shù)，將所述殘差導(dǎo)入連接強(qiáng)度函數(shù)中，得到所述連接強(qiáng)度函數(shù)的值，所述連接強(qiáng)度函數(shù)的值作為對(duì)角矩陣對(duì)角線上的元素；

通過(guò)復(fù)數(shù)圖像、對(duì)角矩陣以及靈敏度系數(shù)得到無(wú)偽影復(fù)合圖像。

6.一種磁共振成像裝置，其特征在于，至少包括：

相控陣列線圈，用于對(duì)視野掃描得到多個(gè)復(fù)合圖像、以及相對(duì)應(yīng)的復(fù)數(shù)圖像；

計(jì)算裝置，用于根據(jù)所述多個(gè)復(fù)合圖像得到求和圖像，并根據(jù)所述多個(gè)復(fù)合圖像及求和圖像計(jì)算得到靈敏度系數(shù)；

圖像重建裝置，用于校正所述靈敏度系數(shù)，并生成重建圖像。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁共振成像裝置，其特征在于，還包括：

亮度校正裝置，用于校正所述復(fù)合圖像中的偏差場(chǎng)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的磁共振成像裝置，其特征在于，所述亮度校正裝置至少包括：

掩模處理模塊，用于對(duì)復(fù)合圖像預(yù)處理，得到掩模；

組織變換模塊，用于將所述掩模作用于復(fù)合圖像中以抽取組織部分圖像，并對(duì)所述組織部分圖像進(jìn)行對(duì)數(shù)變換，得到加性偏差場(chǎng)；

預(yù)校正模塊，用于根據(jù)加性偏差場(chǎng)和掩模，通過(guò)高斯低通濾波器和歸一化卷積得到初步估計(jì)的偏差場(chǎng)；

平滑模塊，用于對(duì)初步估計(jì)的偏差場(chǎng)進(jìn)行B樣條平滑擬合得到精確估計(jì)的偏差場(chǎng)，并通過(guò)測(cè)量得到的圖像灰度與所述精確估計(jì)的偏差場(chǎng)之比得到校正的復(fù)合圖像。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁共振成像裝置，其特征在于，所述掩模處理模塊還用于在復(fù)合圖像中測(cè)量得到灰度圖像，通過(guò)所述灰度圖像得到所述灰度圖像中點(diǎn)的亮度最大值，設(shè)定閾值為最大亮度的百分比，低于閾值部分設(shè)為0，組織部分設(shè)為1，形成二值圖像，以得到掩模。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁共振成像裝置，其特征在于，所述圖像重建裝置至少包括：

擬合模塊，用于通過(guò)參考圖像與所述復(fù)合圖像的擬合得到殘差；

估計(jì)模塊，用于引入退火參數(shù)，將所述殘差導(dǎo)入連接強(qiáng)度函數(shù)中，得到所述連接強(qiáng)度函數(shù)的值，所述連接強(qiáng)度函數(shù)的值作為對(duì)角矩陣中對(duì)角線上的元素；

圖像生成模塊，用于通過(guò)復(fù)數(shù)圖像、對(duì)角矩陣以及靈敏度系數(shù)得到無(wú)偽影復(fù)合圖像。