[發(fā)明專利]光學(xué)記錄介質(zhì)、信息記錄方法、及信息再現(xiàn)方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010255599.5 | 申請日: | 2007-06-01 |
| 公開(公告)號: | CN101908351A | 公開(公告)日: | 2010-12-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高澤孝次;森田成二;梅澤和代;森下直樹;大寺泰章;安東秀夫;中村直正 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社東芝 |
| 主分類號: | G11B7/24 | 分類號: | G11B7/24;G11B7/258 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 陳源;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 記錄 介質(zhì) 信息 方法 再現(xiàn) | ||
1.一種盤形光學(xué)記錄介質(zhì)(100),包括:
記錄層(L1),配置來以預(yù)定波長的光記錄或再現(xiàn)信息;
在所述介質(zhì)(100)的內(nèi)圓周側(cè)處的記錄層(L1)上提供的燒錄區(qū)(BCA),所述燒錄區(qū)(BCA)配置來記錄包括標(biāo)記極性標(biāo)志的特定信息,所述標(biāo)記極性標(biāo)志指示記錄層(L1)上的記錄標(biāo)記的極性,
其中所述標(biāo)記極性標(biāo)志表明記錄標(biāo)記的極性是低-高還是高-低。
2.一種使用權(quán)利要求1的盤形光學(xué)記錄介質(zhì)的信息記錄方法,所述方法包括:
在記錄層(L1)上記錄信息。
3.一種使用權(quán)利要求1的盤形光學(xué)記錄介質(zhì)的信息再現(xiàn)方法,所述方法包括:
從記錄層(L1)中再現(xiàn)信息。
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