[發(fā)明專利]等離子體浸沒注入機的注入離子劑量檢測控制裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010255068.6 | 申請日： | 2010-08-17 |
| 公開（公告）號： | CN102376520A | 公開（公告）日： | 2012-03-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 汪明剛;劉杰;夏洋;李超波;陳瑤;趙麗莉;李勇滔 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學院微電子研究所 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市德權(quán)律師事務(wù)所 11302 | 代理人： | 王建國 |
| 地址： | 100029 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 等離子體 浸沒 注入 離子 劑量 檢測 控制 裝置 | ||
1.一種等離子體浸沒注入機的注入離子劑量檢測控制裝置，其特征在于，所述裝置包括：
診斷單元，用于診斷等離子體特性參數(shù)；
分析單元，用于獲得等離子體中粒子組分和各組分粒子含量；
與所述診斷單元和分析單元相連接的計算單元，用于根據(jù)所述等離子體特性參數(shù)以及所述等離子體中粒子組分和所述各組分粒子含量，計算得出注入工藝參數(shù)；
與所述計算單元相連接的控制單元，用于根據(jù)所述計算單元的輸出信號以及注入工藝參數(shù)控制等離子體浸沒注入機的注入工藝。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體浸沒注入機的注入離子劑量檢測控制裝置，其特征在于，所述診斷單元診斷的等離子體特性參數(shù)包括等離子體離子密度、電子密度、等離子體電勢與等離子體電子溫度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體浸沒注入機的注入離子劑量檢測控制裝置，其特征在于，所述注入工藝參數(shù)為確定目標注入劑量下的注入工藝時間和確定注入工藝時間內(nèi)的注入離子劑量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體浸沒注入機的注入離子劑量檢測控制裝置，其特征在于，所述計算單元包括注入時間計算模塊以及注入劑量計算模塊，所述注入時間計算模塊根據(jù)利用準靜態(tài)蔡爾德-朗繆爾鞘層理論計算出注入確定劑量的等離子體所需的時間；所述注入劑量計算模塊根據(jù)利用準靜態(tài)蔡爾德-朗繆爾鞘層理論計算出在確定是時間內(nèi)注入的等離子體劑量。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子體浸沒注入機的注入離子劑量檢測控制裝置，其特征在于，所述控制單元根據(jù)所述計算單元的輸出的注入劑量控制信號以及注入工藝參數(shù)控制等離子體浸沒注入機的注入工藝。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子體浸沒注入機的注入離子劑量檢測控制裝置，其特征在于，所述控制單元根據(jù)所述計算單元輸出的注入時間信號以及注入工藝參數(shù)控制等離子體浸沒注入機的注入工藝。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體浸沒注入機的注入離子劑量檢測控制裝置，其特征在于，所述診斷單元由蔡爾德-朗繆爾靜電探針、波診斷儀、微波干涉儀中的一種或幾種構(gòu)成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體浸沒注入機的注入離子劑量檢測控制裝置，其特征在于，所述分析單元采用質(zhì)譜儀構(gòu)成。
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