[發明專利]平版印刷方法有效
| 申請號： | 201010253910.2 | 申請日： | 2010-06-08 |
| 公開（公告）號： | CN101943860A | 公開（公告）日： | 2011-01-12 |
| 發明（設計）人： | D·王;G·G·巴克利;T·A·埃斯戴爾;K·J·斯皮祖科;D·康 | 申請（專利權）人： | 羅門哈斯電子材料有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/30;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 陳哲鋒 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 平版印刷 方法 | ||
1.一種處理光致抗蝕劑組合物的方法，所述方法包括：
(a)在基底上施加光致抗蝕劑組合物；
(b)將所述光致抗蝕劑層在輻射下浸沒曝光以激活光致抗蝕劑組合物；
(c)調節所述曝光的光致抗蝕劑層的水接觸角；和
(d)將處理后的光致抗蝕劑層顯影得到光致抗蝕浮雕圖象。
2.根據權利要求1所述的方法，其中所述曝光的光致抗蝕劑層的水接觸角減小。
3.一種處理光致抗蝕劑組合物的方法，所述方法包括：
(a)在基底上施加光致抗蝕劑組合物；
(b)將所述光致抗蝕劑層在輻射下浸沒曝光以激活光致抗蝕劑組合物；
(c)除去部分曝光的光致抗蝕劑層；和
(d)將處理后的光致抗蝕劑層顯影得到光致抗蝕浮雕圖象。
4.根據權利要求1到3中任一所述的方法，其中在顯影前用流體組合物處理所述曝光的光致抗蝕劑層。
5.根據權利要求4所述的方法，其中所述流體組合物包括用于所述光致抗蝕劑組合物的非溶劑。
6.根據權利要求4所述的方法，其中所述流體組合物包括(i)一種或多種用于所述光致抗蝕劑組合物的非溶劑和(ii)一種或多種用于所述光致抗蝕劑組合物的溶劑。
7.根據權利要求1到6中任一所述的方法，其中所述光致抗蝕劑層利用堿性顯影劑組合物溶液進行顯影。
8.根據權利要求1到7中任一所述的方法，其中所述光致抗蝕劑組合物包括：
(i)一種或多種樹脂，
(ii)一種光活性組分，和
(iii)基本上與一種或多種樹脂不可混和的一種或多種材料。
9.根據權利要求1到8中任一所述的方法，其中所述光致抗蝕劑組合物包括：
(i)一種或多種樹脂，
(ii)一種光活性組分，和
(iii)一種或多種材料，所述一種或多種材料包括1)Si取代基；2)氟取代基；3)超枝化聚合物；和/或4)聚合物顆粒。
10.根據權利要求8或9中任一所述的方法，其中所述一種或多種材料是樹脂。
11.一種處理光致抗蝕劑組合物的方法，所述方法包括：
(a)在基底上施加光致抗蝕劑組合物；
(b)將所述光致抗蝕劑層在輻射下曝光以激活光致抗蝕劑組合物；
(c)除去部分但非全部曝光的光致抗蝕劑層；
(d)將處理后的光致抗蝕劑層顯影得到光致抗蝕浮雕圖象。
12.根據權利要求11所述的方法，其中所述曝光的光致抗蝕劑組合物用溶劑組合物處理，該溶劑組合物包括(i)一種或多種用于光致抗蝕劑組合物的非溶劑和(ii)一種或多種用于光致抗蝕劑組合物的溶劑。
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