[發明專利]一種去除三氧化鉻產品中雜質的方法無效
| 申請號： | 201010250693.1 | 申請日： | 2010-08-11 |
| 公開（公告）號： | CN101898794A | 公開（公告）日： | 2010-12-01 |
| 發明（設計）人： | 李先榮;陳寧;張國慶;秦龍;尹天平;劉金 | 申請（專利權）人： | 綿陽崴尼達化工有限公司 |
| 主分類號： | C01G37/033 | 分類號： | C01G37/033 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 622656 四川省*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 去除 氧化鉻 產品 雜質 方法 | ||
1.一種去除三氧化鉻產品中雜質的方法，其包括如下步驟：
(1)將三氧化鉻產品放入壓力容器中，加熱使其溫度保持在80-195℃；
(2)在三氧化鉻流動狀態下向壓力容器中通入含有水蒸汽的氣體，使壓力保持在0.001～10Mpa，溫度保持在50～200℃，處理5～500分鐘；
(3)真空干燥，并用非還原性氣體置換壓力容器，得到終產品。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于所述通入的含有水蒸汽的氣體為水蒸汽，或水蒸汽與另外一種非還原性氣體所組成的混合氣體。
3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于非還原性氣體指的是該氣體不會與三氧化鉻發生氧化還原反應，使三氧化鉻被還原為低價的鉻化合物的氣體，選自常用的空氣、氮氣、氧氣、二氧化碳等氣體中的一種。
4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于非還原性氣體與水蒸汽的體積比為0.001∶1～100∶1。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于處理三氧化鉻的壓力范圍為0.1～0.6Mpa。
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于處理三氧化鉻的溫度范圍為120～160℃。
7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：用含水蒸汽的氣體處理三氧化鉻完畢后，排空處理用的氣體，放出水蒸汽，對容器抽真空烘干。
8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：用含水蒸汽的氣體處理三氧化鉻完畢后，排空處理用的氣體，放出水蒸汽，采用非還原性氣體對容器進行換氣處理3～5次，換氣過程將容器抽真空。
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