[發明專利]一種環境補償對準系統

有效

• 申請號: 201010250448.0
• 申請日: 2010-08-11
• 公開（公告）號: CN102375352A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發明（設計）人: 李運鋒
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種用于光刻設備的對準系統，包括：

提供對準照明光束的光源與照明模塊；對對準標記進行成像的成像模塊；參考光柵；采集透過參考光柵的光強信號并進行處理的信號采集處理模塊；對準標記；承載硅片的工件臺；運動臺；采集承載硅片的工件臺的位置信息，并與對準操作與管理模塊進行同步談判，規劃運動軌跡，控制運動臺的運動的位置采集與運動控制模塊；和接收信號采集處理模塊和位置采集與運動控制模塊的信號的對準操作與管理模塊，其特征在于：

還包括環境測量模塊，所述的環境測量模塊用于測量和采集對準衍射光束傳播路線所處的環境變量，并將采集到的環境變量信息傳輸到對準操作與管理模塊；所述的對準操作與管理模塊利用光強數據、工件臺位置數據和環境變量信息確定對準位置。

2.根據權利要求1所述的對準系統，其特征在于：所述的環境測量模塊測量成像模塊內部的環境變量變化，或測量成像模塊與對準標記之間的環境變量變化，或二者均測量。

3.根據權利要求2所述的對準系統，其特征在于：所述的環境變量為影響對準衍射光束傳播介質的折射率的環境變量中的一個或多個。

4.根據權利要求3所述的對準系統，其特征在于：所述的環境變量為溫度、壓力和濕度。

5.根據權利要求1-4中任意一個所述的對準系統，其特征在于：所述的對準操作與管理模塊利用每一通道的光強數據和共用的工件臺位置數據，經數據擬合，確定每一通道對準信號的一系列峰值。

6.根據權利要求5所述的對準系統，其特征在于：所述的對準操作與管理模塊利用環境變量信息修正每一通道對準信號的一系列峰值。

7.根據權利要求6所述的對準系統，其特征在于：所述的修正方法采用環境變量-峰值位置偏移數學模型進行修正。

8.根據權利要求7所述的對準系統，其特征在于：所述的環境變量-峰值位置偏移數學模型為：

Δφ=f(λ,L,P,T,...,h,P0,T0,...,h0)ΔXi=SiΔφXpeak,i′=Xpeak,i+ΔXi]]>

式中，f(·)為相位偏移函數，Δφ為相位偏移，λ為對準照明波長，L為對準衍射光束傳播光程差，P，T，...，h為壓力、溫度、…、濕度等各環境變量實測值，P₀，T₀，...，h₀為工作環境的參考值。S_i為第i通道對準信號的周期，ΔX_i為該信號峰值的位置偏差，X_peak，i為擬合獲得的第i通道對準信號的一系列峰值位置，X′_peak，i為修正后的第i通道對準信號的峰值位置。