[發明專利]熒光量或吸光量的測定方法及測定裝置

無效

• 申請號: 201010250354.3
• 申請日: 2010-08-06
• 公開（公告）號: CN101995291A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發明（設計）人: 田名網健雄;青木秀年;杉山由美子;下田聰一郎;蘭宗樹
• 申請（專利權）人: 橫河電機株式會社
• 主分類號: G01J1/00
• 分類號: G01J1/00;G01N21/64
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 何立波;張天舒

1.一種熒光量測定方法，其向試樣照射激勵光，經由受光光學系統，利用受光元件測定從該試樣產生的熒光，

其特征在于，具有下述步驟：

向所述試樣照射激勵光的步驟，該激勵光具有可溯源至國家標準且在試樣表面的每單位面積上為預先指定的光量值；

經由所述受光光學系統，利用所述受光元件測定從所述試樣產生的熒光的步驟；以及

基于所述每單位面積上的指定激勵光量、所述受光光學系統的光學系數以及所述受光元件的受光系數，對由所述受光元件測定的熒光量進行運算，從而作為可溯源至國家標準的每單位面積上的光量值而進行計算的步驟。

2.一種吸收光量測定方法，其向試樣照射照射光，經由受光光學系統，利用受光元件測定由該試樣吸收后的透過光，

其特征在于，具有下述步驟：

經由所述受光光學系統，利用所述受光元件測定照射光的步驟，該照射光具有可溯源至國家標準且在試樣表面的每單位面積上為預先指定的光量值；

將所述照射光向所述試樣照射的步驟；

經由所述受光光學系統，利用所述受光元件測定由所述試樣吸收后的透過光的步驟；以及

基于所述每單位面積上的指定照射光量、所述受光光學系統的光學系數以及所述受光元件的受光系數，對由所述受光元件測定的透過光量進行運算，從而作為可溯源至國家標準的每單位面積上的吸光量值而進行計算的步驟。

3.一種熒光量測定裝置，其向試樣照射激勵光，經由受光光學系統，利用受光元件測定從該試樣產生的熒光，

其特征在于，具有：

光源單元，其向所述試樣照射激勵光，該激勵光具有可溯源至國家標準且在試樣表面的每單位面積上為預先指定的光量值；

光量測量單元，其經由所述受光光學系統，利用所述受光元件測定從所述試樣產生的熒光；以及

熒光量計算單元，其基于所述每單位面積上的指定激勵光量、所述受光光學系統的光學系數以及所述受光元件的受光系數，對由所述受光元件測定的熒光量進行運算，從而作為可溯源至國家標準的每單位面積上的光量值而進行計算。

4.一種吸收光量測定裝置，其向試樣照射照射光，經由受光光學系統，利用受光元件測定由該試樣吸收后的透過光，

其特征在于，具有：

光源單元，其向所述試樣照射照射光，該照射光具有可溯源至國家標準且在試樣表面的每單位面積上為預先指定的光量值；

光量測量單元，其經由所述受光光學系統，利用所述受光元件測定從所述光源單元射出的照射光以及由所述試樣吸收后的透過光；以及

吸光量計算單元，其基于所述每單位面積上的指定照射光量、所述受光光學系統的光學系數以及所述受光元件的受光系數，對由所述受光元件測定的透過光量進行運算，從而作為可溯源至國家標準的每單位面積上的吸光量值而進行計算。