[發(fā)明專利]曝光裝置和設(shè)備制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010248847.3
• 申請日: 2010-08-06
• 公開（公告）號: CN101995775A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 深見清司
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B17/08;G02B13/18;G03F7/00
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 呂林紅

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及曝光裝置和使用該曝光裝置來制造設(shè)備的設(shè)備制造方法。

背景技術(shù)

光刻工序包括曝光工序，該曝光工序?qū)⒈环Q為掩模或中間掩模(reticle)的原版的圖案投影至涂敷了被稱為光刻膠的感光劑的玻璃基板或晶片等基板上，將該基板曝光。在FPD(平板顯示器，F(xiàn)lat?Panel?Display)的制造中，一般可使用具有包括反射鏡的投影光學(xué)系統(tǒng)的曝光裝置。

專利文獻1涉及將玻璃基板等較大屏幕的被曝光體曝光的投影光學(xué)系統(tǒng)。在該文獻中公開了投影光學(xué)系統(tǒng)，它從物體一側(cè)起依次具有正的第1反射面、負(fù)的第2反射面、第3反射面；而在第1反射面和第2反射面之間以及第2反射面和第3反射面之間至少配置有兩枚透鏡。該透鏡可配置于第2反射面的附近，該第2反射面為光瞳面。

適應(yīng)于FPD的大屏幕化和生產(chǎn)率的提高的要求，曝光區(qū)域的面積在增大，入射至投影光學(xué)系統(tǒng)的光的能量也隨之在增大。尤其在投影光學(xué)系統(tǒng)的光瞳或其附近，由于光束收斂，所以能量密度變高。關(guān)于構(gòu)成反射面的反射鏡，通過選擇線性膨脹系數(shù)小的材質(zhì)和選擇表面吸收率小的反射膜，比較易于減小變形或進行冷卻等。

然而，由于光的入射而在透鏡中產(chǎn)生的熱在透鏡的周邊部分通過支撐它的部件而容易逸出，但在透鏡的中央部分則難以選出。由此，在透鏡中產(chǎn)生例如從周邊部分向中心部分溫度逐漸升高的不均勻的溫度分布，這對透鏡附加了不良的屈光度(折射力)。例如，考慮透鏡由石英所構(gòu)成的情況。因為石英具有正的dn/dt(n為折射率，t為溫度，dn/dt表示折射率的溫度系數(shù)(由于溫度變化所帶來的折射率的變化))，所以從周邊部分向中心部分溫度逐漸升高的溫度分布就對透鏡附加了正的屈光度。如此的不良屈光度的附加，會帶來成像特性的下降。

(專利文獻1)日本特開2006-078631號公報。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，抑制由投影光學(xué)系統(tǒng)的透鏡可產(chǎn)生的不均勻的溫度分布所帶來的成像特性的下降。

本發(fā)明的一個方面涉及一種曝光裝置，它具有投影光學(xué)系統(tǒng)，該投影光學(xué)系統(tǒng)將在物面上配置的原版的圖案投影至在像面上配置的基板；所述投影光學(xué)系統(tǒng)具有：在所述物面至所述像面的光路上，從所述物面起依次配置的第1平面鏡、第1凹面鏡、凸面鏡、第2凹面鏡、第2平面鏡；和折射光學(xué)系統(tǒng)，在所述第1凹面鏡和所述凸面鏡之間以及所述凸面鏡和所述第2凹面鏡之間配置，并且具有正的屈光度，所述折射光學(xué)系統(tǒng)包括：第1透鏡，由折射率的溫度變化系數(shù)為正的材料所構(gòu)成；和第2透鏡，由折射率的溫度變化系數(shù)為負(fù)的材料所構(gòu)成。

根據(jù)本發(fā)明，可抑制由投影光學(xué)系統(tǒng)的透鏡可產(chǎn)生的不均勻的溫度分布所帶來的成像特性的下降。

附圖說明

圖1是概要表示本發(fā)明的第1實施方式的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。

圖2是概要表示本發(fā)明的第2實施方式的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。

圖3是概要表示本發(fā)明的第3實施方式的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。

具體實施方式

以下參照附圖說明本發(fā)明的優(yōu)選實施方式。

(第1實施方式)

參照圖1對本發(fā)明的第1實施方式的曝光裝置進行說明。第1實施方式的曝光裝置EX1具有：照明系統(tǒng)IL；投影光學(xué)系統(tǒng)PO；原版驅(qū)動機構(gòu)(未圖示)，在投影光學(xué)系統(tǒng)PO的物面OP上配置原版9，并對其進行掃描；和基板驅(qū)動機構(gòu)(未圖示)，在投影光學(xué)系統(tǒng)PO的像面IP上配置基板18，并對其進行掃描。照明系統(tǒng)IL例如可包括光源LS、第1聚光透鏡3、復(fù)眼透鏡4、第2聚光透鏡5、狹縫規(guī)定部件6、成像光學(xué)系統(tǒng)7和平面反射鏡8。光源LS例如可包括汞燈1和橢圓反射鏡2。狹縫規(guī)定部件6規(guī)定原版9的照明范圍(即對原版9進行照明的狹縫形狀的光的斷面形狀)。成像光學(xué)系統(tǒng)7被配置為使狹縫規(guī)定部件6所規(guī)定的狹縫在物面成像。平面反射鏡8在照明系統(tǒng)IL中使光路彎折。