[發明專利]一種選擇性匯聚的光學器件有效
| 申請號: | 201010247984.5 | 申請日: | 2010-08-06 |
| 公開(公告)號: | CN101969078A | 公開(公告)日: | 2011-02-09 |
| 發明(設計)人: | 白金 | 申請(專利權)人: | 白金;許昭明 |
| 主分類號: | H01L31/052 | 分類號: | H01L31/052;H01L31/055;H01L31/18 |
| 代理公司: | 深圳市康弘知識產權代理有限公司 44247 | 代理人: | 胡朝陽;孫潔敏 |
| 地址: | 450053 河南省*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 選擇性 匯聚 光學 器件 | ||
1.一種選擇性匯聚的光學器件,其特征在于:包括由上至下依次層疊的選擇性反射膜層(1)、上導光層(2)、光頻轉換膜層(3)、下導光層(4)、反射層(5)和封裝保護層(6),所述光學器件的一側面為出光面(7),其余側面均由內向外設置有所述的反射層(5)和封裝保護層(6)。
2.根據權利要求1所述的選擇性匯聚的光學器件,其特征在于:所述選擇性反射膜層(1)由一維光子晶體、二維光子晶體或三維光子晶體的任一種構成。
3.根據權利要求2所述的選擇性匯聚的光學器件,其特征在于:所述光頻轉換層(3)由將入射光轉換為各向同性同一波長光發射的有機或無機熒光轉換物質或半導體納米晶構成;所述光子晶體的禁帶波長與該光頻轉換層發射光的波長相同。
4.根據權利要求3所述的選擇性匯聚的光學器件,其特征在于:所述光頻轉換層(3)為整體結構、多層復合結構、點陣結構或條形圖案化膜層結構的任一種或上述結構的組合。
5.根據權利要求4所述的選擇性匯聚的光學器件,其特征在于:所述的上、下導光層(2、4)由高透過率的有機或無機材料、真空腔體或高透過率的液體腔體的任一種構成。
6.根據權利要求5所述的選擇性匯聚的光學器件,其特征在于:所述反射層(5)為金屬鏡面反射層、有機或無機漫反射層或一維、二維、三維光子晶體的任一種。
7.根據權利要求6所述的選擇性匯聚的光學器件,其特征在于:所述封裝保護層(6)由有機樹脂或無機鍍膜材料構成。
8.根據權利要求1所述的選擇性匯聚的光學器件,其特征在于:所述出光面(7)位置處設置有一光電轉換裝置(8)。
9.一種如權利要求1所述的選擇性匯聚的光學器件的制作方法,包括下列步驟:
將光子晶體制作在一高透過率的導光板(2)上,形成一層選擇性反射的光子晶體薄膜,即選擇性反射膜層(1);
將光致發光材料制作在所述導光板(2)的另一面,形成光頻轉換膜層(3),且使光頻轉換膜層(3)發射光的波長與選擇性反射膜層(1)光子晶體的禁帶波長相同;
用高透過率的光學膠將所述光頻轉換膜層(3)與另一高透過率的導光板(4)的粘合;
在上述層疊結構的底面和三個側面真空蒸鍍高反射率的物質,形成反射層(5),剩余一側面作為出光面(7),再在所述反射層的外側形成一封裝保護層(6)。
10.根據權利要求9所述的選擇性匯聚的光學器件的制作方法,其特征在于:所述光子晶體采用垂直沉積法或真空蒸鍍法制作在導光板上;所述光致發光材料采用真空鍍膜的方式或旋轉涂膜的方式制作在導體板的另一面。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





