[發明專利]一種聚羧酸減水劑的合成方法

無效

• 申請號: 201010246938.3
• 申請日: 2010-08-06
• 公開（公告）號: CN101906193A
• 公開（公告）日: 2010-12-08
• 發明（設計）人: 石春
• 申請（專利權）人: 天津市飛龍砼外加劑有限公司
• 主分類號: C08F290/06
• 分類號: C08F290/06;C08F4/40;C04B24/26;C04B103/30
• 代理公司: 天津市鼎和專利商標代理有限公司 12101
• 代理人: 李鳳

1.一種聚羧酸減水劑的合成方法，其特征是：采用氧化一還原體系反應單體共聚，包括以下工藝步驟，

1)常溫下向反應釜中加入水、反應的單體以及還原劑；單體為酯類、醚類或胺類單體，以及羧酸類單體；還原劑為巰基醇、巰基酸類或其混合物；

2)加入氧化劑，氧化劑為過硫酸鹽、雙氧水、有機過氧化物或其混合物；

3)加入氫氧化鈉中和至pH值為6-8，得到聚羧酸減水劑。

2.根據權利要求1所述的聚羧酸減水劑的合成方法，其特征是：酯類單體為分子量為200-8000的甲氧基聚乙二醇丙烯酸酯，醚類單體為烯丙基聚乙二醇醚或異戊烯醇聚乙二醇醚，胺類單體為亞胺類單體。

3.根據權利要求1所述的聚羧酸減水劑的合成方法，其特征是：羧酸類單體為丙烯酸、丙烯酰胺、馬來酸酐、衣康酸或羥烷基羧酸。

4.根據權利要求1、2或3所述的聚羧酸減水劑的合成方法，其特征是：酯類、醚類或胺類單體與羧酸類單體的摩爾比為1∶1.5-1∶6.0。

5.根據權利要求1所述的聚羧酸減水劑的合成方法，其特征是：氧化劑為0.5％-50％重量百分比濃度的溶液，加入氧化劑方式為一次性加入或滴加到反應釜中。

6.根據權利要求1所述的聚羧酸減水劑的合成方法，其特征是：酯類、醚類或胺類單體，羧酸類單體，以及還原劑采用滴加或混合滴加方式加入至反應釜中。

7.根據權利要求1所述的聚羧酸減水劑的合成方法，其特征是：制備聚羧酸減水劑的反應釜溫度為0℃-50℃。

8.根據權利要求1所述的聚羧酸減水劑的合成方法，其特征是：氧化劑、還原劑為單體總質量的0.5％-10％。