[發(fā)明專利]一種高壓功率半導(dǎo)體器件的邊緣終端結(jié)構(gòu)無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010246809.4 | 申請(qǐng)日: | 2010-08-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101969068A | 公開(公告)日: | 2011-02-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡佳賢;韓雁;張世峰;張斌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L29/06 | 分類號(hào): | H01L29/06;H01L27/02 |
| 代理公司: | 杭州天勤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡紅娟 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高壓 功率 半導(dǎo)體器件 邊緣 終端 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種高壓功率半導(dǎo)體器件的邊緣終端結(jié)構(gòu),包括若干個(gè)將功率半導(dǎo)體器件環(huán)繞、與襯底具有相反導(dǎo)電類型的場(chǎng)限環(huán),其特征在于,在場(chǎng)限環(huán)單側(cè)或兩側(cè)設(shè)有與場(chǎng)限環(huán)導(dǎo)電類型相同,摻雜濃度小于場(chǎng)限環(huán)的摻雜區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓功率半導(dǎo)體器件的邊緣終端結(jié)構(gòu),其特征在于,所述的場(chǎng)限環(huán)上覆有場(chǎng)板,場(chǎng)限環(huán)與場(chǎng)板之間用二氧化硅層間隔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高壓功率半導(dǎo)體器件的邊緣終端結(jié)構(gòu),其特征在于,所述的場(chǎng)板的材料選自銅、鋁、多晶硅、摻氧多晶硅。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高壓功率半導(dǎo)體器件的邊緣終端結(jié)構(gòu),其特征在于,相鄰的場(chǎng)板之間用二氧化硅間隔,該二氧化硅厚度大于場(chǎng)限環(huán)與場(chǎng)板之間的二氧化硅層。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





