[發明專利]一種化學機械拋光液有效
| 申請號： | 201010246594.6 | 申請日： | 2010-08-06 |
| 公開（公告）號： | CN102344760A | 公開（公告）日： | 2012-02-08 |
| 發明（設計）人： | 王晨;何華鋒 | 申請（專利權）人： | 安集微電子(上海)有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02;C23F3/04 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區張江高*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 | ||
1.一種化學機械拋光液，其包括：水，研磨劑，能侵蝕鎢的化合物，和至少一種鎢侵蝕抑制劑，其中所述鎢侵蝕抑制劑為含有雙鍵的酰胺。
2.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述鎢侵蝕抑制劑為丙烯酰胺。
3.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述鎢侵蝕抑制劑含量為質量百分比0.01％~0.5％。
4.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述能侵蝕鎢的化合物包括至少一種氧化劑。
5.根據權利要求4所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述氧化劑為過氧化物。
6.根據權利要求5所述的所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述過氧化物為過氧化氫。
7.根據權利要求6所述的所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述過氧化氫含量為質量百分比0.1~5％。
8.根據權利要求7所述的所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述過氧化氫含量為質量百分比1~2％。
9.根據權利要求4所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述能侵蝕鎢的化合物進一步包含提高鎢拋光速度的添加劑。
10.根據權利要求9所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述添加劑含有銀離子和硫酸根離子。
11.根據權利要求10所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述銀離子來自于銀鹽。
12.根據權利要求11所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述銀離子來自于氟化銀、高氯酸銀、硫酸銀或硝酸銀。
13.根據權利要求11所述的化學機械拋光液，其中，所述銀鹽重量百分比為0.05％~0.3％。
14.根據權利要求10所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述硫酸根離子來自于硫酸鹽。
15.根據權利要求14所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述硫酸根離子來自于非金屬的硫酸鹽。
16.根據權利要求15所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述非金屬硫酸鹽為硫酸銨。
17.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的化學機械拋光液進一步含有pH調節劑。
18.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的化學機械拋光液的pH值為0.5~5。
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