[發明專利]用于金屬基底的半水性剝離和清潔制劑及其使用方法

無效

• 申請號: 201010246319.4
• 申請日: 2010-08-04
• 公開（公告）號: CN101993797A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發明（設計）人: M·I·埃格貝
• 申請（專利權）人: 氣體產品與化學公司
• 主分類號: C11D7/32
• 分類號: C11D7/32;C11D7/26;H01L21/3105;G03F7/42
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳文平

1.一種半水性剝離和清潔制劑，包括：

a.鏈烷醇胺；

b.水可混溶的有機共溶劑；

c.季銨化合物；

d.非游離酸官能團緩蝕劑；和

e.水；

其中所述制劑的pH大于9。

2.如權利要求1所述的制劑，其中所述鏈烷醇胺選自單乙醇胺、N-甲基乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、二乙基羥胺及其混合物；所述水可混溶的有機共溶劑選自二醇醚和糠醇；且所述鏈烷醇胺和所述水可混溶的有機共溶劑的總重量百分比為1重量％-50重量％。

3.如權利要求1所述的制劑，其中所述水可混溶的有機共溶劑選自丙二醇(PG)、一縮二丙二醇甲基醚(DPM)、二縮三丙二醇甲基醚(t-PGME)、丙二醇甲醚(PGME)、丙二醇丙醚(PGPE)、三(丙二醇)單甲醚、2-(2-丁氧乙氧基)乙醇、四氫糠醇(THFA)及其混合物。

4.如權利要求1所述的制劑，其中所述季銨化合物為0.5重量％-10重量％，且選自氫氧化四甲銨(TMAH)、氫氧化四乙銨、氫氧化四丁銨(TBAH)、氫氧化四丙銨、氫氧化三甲基乙基銨、氫氧化(2-羥乙基)三甲基銨、氫氧化(2-羥乙基)三乙基銨、氫氧化(2-羥乙基)三丙基銨、氫氧化(1-羥丙基)三甲基銨、氫氧化乙基三甲基銨、氫氧化二乙基二甲基銨、氫氧化芐基三甲基銨及其混合物。

5.如權利要求1所述的制劑，其中所述緩蝕劑為0.5重量％-15重量％，且選自兒茶酚、叔丁基兒茶酚、連苯三酚、沒食子酸酯及其混合物。

6.一種半水性剝離和清潔制劑，包括：

a.選自單乙醇胺、N-甲基乙醇胺及其混合物的鏈烷醇胺；

b.選自丙二醇(PG)、一縮二丙二醇甲基醚(DPM)、二縮三丙二醇甲基醚(t-PGME)、四氫糠醇(THFA)及其混合物的水可混溶的有機共溶劑；

c.0.5重量％-10重量％的選自氫氧化四甲銨(TMAH)、氫氧化四乙銨、氫氧化四丁銨(TBAH)及其混合物的季銨化合物；

d.0.5重量％-15重量％的選自叔丁基兒茶酚、連苯三酚及其混合物的緩蝕劑；

e.剩余物水；

其中所述鏈烷醇胺和所述水可混溶的有機共溶劑的總重量百分比為5重量％-40重量％，且所述制劑的pH大于9。

7.如權利要求6所述的制劑，其中所述水可混溶的有機共溶劑為一縮二丙二醇甲基醚(DPM)。

8.一種從半導體基底除去光致抗蝕劑、蝕刻或灰化殘留物以及污染物的方法，包括：

將半導體基底與制劑接觸，所述制劑包括：

a.鏈烷醇胺；

b.水可混溶的有機共溶劑；

c.季銨化合物；

d.非游離酸官能團緩蝕劑；和

e.水；

其中所述制劑的pH大于9。

9.如權利要求8所述的方法，其中所述鏈烷醇胺選自單乙醇胺、N-甲基乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、二乙基羥胺及其混合物；所述水可混溶的有機共溶劑選自二醇醚和糠醇；且所述鏈烷醇胺和所述水可混溶的有機共溶劑的總重量百分比為5重量％-40重量％。

10.如權利要求8所述的方法，其中所述水可混溶的有機共溶劑選自丙二醇(PG)、一縮二丙二醇甲基醚(DPM)、二縮三丙二醇甲基醚(t-PGME)、丙二醇甲醚(PGME)、丙二醇丙醚(PGPE)、三(丙二醇)單甲醚、2-(2-丁氧乙氧基)乙醇、四氫糠醇(THFA)及其混合物。

11.如權利要求8所述的方法，其中所述季銨化合物為0.5重量％-10重量％，且選自氫氧化四甲銨(TMAH)、氫氧化四乙銨、氫氧化四丁銨(TBAH)、氫氧化四丙銨、氫氧化三甲基乙基銨、氫氧化(2-羥乙基)三甲基銨、氫氧化(2-羥乙基)三乙基銨、氫氧化(2-羥乙基)三丙基銨、氫氧化(1-羥丙基)三甲基銨、氫氧化乙基三甲基銨、氫氧化二乙基二甲基銨、氫氧化芐基三甲基銨及其混合物。

12.如權利要求8所述的方法，其中所述緩蝕劑為0.5重量％-15重量％，且選自兒茶酚、叔丁基兒茶酚、連苯三酚、沒食子酸酯及其混合物。