[發明專利]位置檢測設備和位置檢測方法

無效

• 申請號: 201010242871.6
• 申請日: 2010-07-30
• 公開（公告）號: CN101995948A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發明（設計）人: 歷本純一
• 申請（專利權）人: 索尼公司
• 主分類號: G06F3/01
• 分類號: G06F3/01;G06K9/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 潘士霖;陳煒

1.一種位置檢測設備，包括：

照射單元，用于對空間中的檢測對象發射照射模式，所述照射模式是包括一種或多種照射光的光組；

成像單元，用于通過對所述檢測對象進行成像而獲得一個或多個圖像；

成像控制單元，用于基于照射定時而控制所述成像單元的成像定時，其中在每個所述照射定時所述照射單元發射所述照射模式；

分析單元，用于基于所述成像單元所獲得的一個或多個圖像而提取以所述照射模式照射所述檢測對象的照射地點并分析所述檢測對象和所述照射模式之間的位置關系；以及

移動處理單元，用于基于所述分析單元所分析的所述檢測對象和所述照射模式之間的位置關系而移動所述照射模式的照射位置，使得以所述照射模式照射所述檢測對象。

2.根據權利要求1所述的位置檢測設備，

其中所述照射模式至少包括在不同的定時發射的第一照射模式和第二照射模式，

其中所述成像控制單元使得所述成像單元獲得在發射所述第一照射模式的照射定時時的圖像和在發射所述第二照射模式的照射定時時的圖像，

其中，所述分析單元對在發射所述第一照射模式時獲得的第一圖像和在發射所述第二照射模式時獲得的第二圖像進行比較，并且所述分析單元識別所述第一照射模式和所述第二照射模式在所述檢測對象上的各個照射位置，以及

其中所述移動處理單元基于所述第一照射模式和所述第二照射模式在所述檢測對象上的照射位置而移動所述照射模式的照射位置。

3.根據權利要求2所述的位置檢測設備，

其中所述照射模式包括所述第一照射模式和所述第二照射模式，所述第一照射模式包括在所述照射模式的移動方向上彼此相鄰的第一光層和第三光層，所述第二照射模式包括位于所述第一光層和所述第三光層之間的第二光層，以及

其中，所述分析單元確定：在以所述第一光層和所述第二光層照射所述檢測對象時，所述照射模式被投射在所述檢測對象上。

4.根據權利要求3所述的位置檢測設備，

其中，在僅以所述第一光層照射所述檢測對象時，所述移動處理單元移動所述照射模式以使得進一步以所述第二光層照射所述檢測對象，以及

其中，在以所述第一光層、所述第二光層以及所述第三光層照射所述檢測對象時，所述移動處理單元移動所述照射模式以使得僅以所述第一光層和所述第二光層照射所述檢測對象。

5.根據權利要求1所述的位置檢測設備，

其中，所述照射模式包括在所述照射模式的移動方向上以彼此之間的預定距離而彼此相鄰的、且在相同的照射定時被發射的第一光層和第二光層，

其中，所述成像控制單元使所述成像單元在所述照射模式的照射定時獲得一個或多個圖像，

其中，所述分析單元根據所述成像單元獲得的一個圖像而識別所述第一光層和所述第二光層在所述檢測對象上的各個照射位置，以及

其中，所述移動處理單元基于所述第一光層和所述第二光層在所述檢測對象上的照射位置而移動所述照射模式的照射位置。

6.根據權利要求5所述的位置檢測設備，

其中，當僅以所述第一光層照射所述檢測對象時，所述分析單元確定所述照射模式被投射到所述檢測對象上。

7.根據權利要求6所述的位置檢測設備，

其中，當未以所述照射模式照射所述檢測對象時，所述移動處理單元移動所述照射模式以使得以所述第一光層照射所述檢測對象，以及

其中，當以所述第一光層和所述第二光層照射所述檢測對象時，所述移動處理單元移動所述照射模式以使得僅以所述第一光層照射所述檢測對象。

8.根據權利要求1所述的位置檢測設備，

其中，所述分析單元能夠分析多個所述檢測對象與所述照射模式之間的位置關系，以及

其中，所述移動處理單元基于各個所述檢測對象與所述照射模式之間的各個所述位置關系而移動所述照射模式的照射位置。

9.根據權利要求8所述的位置檢測設備，

其中，以平面膜狀形成所述照射模式，以及

其中，所述移動處理單元移動所述照射模式以覆蓋所述空間中包括的多個檢測對象。