[發(fā)明專利]具有被彈性支撐的基板的功率半導(dǎo)體模塊及制備功率半導(dǎo)體模塊方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010241837.7 | 申請(qǐng)日: | 2010-05-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101924080A | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-12-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | P·坎沙特;O·霍爾費(fèi)爾德;T·斯托爾策 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 英飛凌科技股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L23/12 | 分類(lèi)號(hào): | H01L23/12;H01L25/11;H01L21/50 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李娜;王忠忠 |
| 地址: | 德國(guó)瑙伊比*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 彈性 支撐 功率 半導(dǎo)體 模塊 制備 方法 | ||
1.一種能夠裝配在熱沉(200)上的功率半導(dǎo)體模塊,該功率半導(dǎo)體模塊包括模塊外殼(1)以及至少一個(gè)安置有至少一個(gè)功率半導(dǎo)體芯片(4)的基板(2),該模塊外殼(1)包括底面(12)和在正的垂直方向(v)上與該底面(12)間隔開(kāi)的頂面(11),該基板(2)包括背對(duì)模塊外殼(1)的內(nèi)部的底面(26),并且其中該基板(2)
設(shè)置在該模塊外殼(1)的開(kāi)口中,所述的開(kāi)口設(shè)置在模塊外殼(1)的底面(12)處;
通過(guò)彈性結(jié)合劑(5)連接到該模塊外殼(1),以便平行于垂直方向(v)相對(duì)于模塊外殼(1)自由移動(dòng);
在未被裝配的情況下處于相對(duì)于模塊外殼(1)的靜止位置;
為了使基板(2)平行于垂直方向(v)從所述靜止位置偏轉(zhuǎn),每毫米的偏轉(zhuǎn)需要0.1N到100N的力。
2.如權(quán)利要求1所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中在其靜止位置時(shí)基板(2)的底面(26)在正的垂直方向(v)上具有距離模塊外殼(1)的底面(12)的第一距離(d3),因此基板(2)的底面(26)相對(duì)于底面(12)在正的垂直方向(v)上被降低。
3.如權(quán)利要求2所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中該第一距離(d3)的范圍為大于0mm至1mm。
4.如權(quán)利要求1所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中在其靜止位置時(shí),基板(2)的底面(26)在負(fù)的垂直方向(v)上具有距離底面(12)的第二距離(d1)。
5.如權(quán)利要求4所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中該第二距離(d1)的范圍為大于0mm至1mm。
6.如權(quán)利要求1所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中在基板(2)處于靜止位置時(shí),基板(2)的底面(26)與模塊外殼(1)的底面(12)共面。
7.如前述的任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中該基板(2)包括被構(gòu)造為正交于垂直方向(v)限定該基板(2)的閉合環(huán)的側(cè)面(23),并且其中彈性結(jié)合劑(5)自模塊外殼(1)全長(zhǎng)延伸到所述側(cè)面(23)。
8.如前述的任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中在每一正交于垂直方向(v)的橫向(x,y)上,基板(2)通過(guò)間隙(7)與模塊外殼(1)間隔開(kāi)。
9.如權(quán)利要求8所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中間隙(7)各處均具有0.1到2mm或者0.1到1mm的最小寬度(d7)。
10.如權(quán)利要求8或9所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中間隙(7)被彈性結(jié)合劑(5)密封。
11.如前述的任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中彈性結(jié)合劑(5)被成形為粘合劑珠。
12.如權(quán)利要求11所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中彈性結(jié)合劑(5)是硅樹(shù)脂基粘合劑。
13.如權(quán)利要求11或12所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中粘合劑顯示出10到40的肖氏A級(jí)硬度。
14.如前述的任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中為了使基板(2)平行于垂直方向(v)從其靜止位置偏轉(zhuǎn),每毫米的偏轉(zhuǎn)需要0.1N到10N的力。
15.如前述的任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中在處于靜止位置時(shí),該基板(2)在垂直方向(v)上距離模塊外殼(1)的側(cè)壁的最小距離(d2)大于或等于基板(2)的厚度。
16.如前述的任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中在處于靜止位置時(shí),該基板(2)在垂直方向(v)上距離模塊外殼(1)的側(cè)壁的最小距離(d2)比基板(2)的厚度(D2)大0.1mm。
17.如前述的任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中模塊外殼的內(nèi)部至少部分地由與彈性結(jié)合劑(5)接觸的凝膠(13)填充。
18.如權(quán)利要求17所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中所述凝膠(13)為硅凝膠。
19.如前述的任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的功率半導(dǎo)體模塊,其中當(dāng)將功率半導(dǎo)體模塊裝配到熱沉(200)的接觸板(201)上時(shí),接觸壓力裝置(16,18,30,1i)在熱沉(200)的方向上按壓該基板(2)。
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