[發明專利]營養液無基質育苗栽培系統及育苗方法

有效

• 申請號: 201010240105.6
• 申請日: 2010-07-29
• 公開（公告）號: CN101965795A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: 劉明池;武占會;陳海麗;齊敏
• 申請（專利權）人: 北京市農林科學院
• 主分類號: A01G31/02
• 分類號: A01G31/02;A01G31/00
• 代理公司: 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100
• 代理人: 陳英

1.一種營養液無基質育苗栽培系統，其特征在于，其包括營養液育苗槽、育苗格盤、播種紙、覆蓋紙和覆蓋基質；

該營養液育苗槽內盛營養液；

該育苗格盤放置于營養液育苗槽上，育苗格盤為底部具有復數個凹陷格盤孔的塑料盤，每個格盤孔的尺寸為單株幼苗根系生長所需空間，每個格盤孔的至少一個側面上開有透水孔，該透水孔部分或全部浸沒在營養液中；

該播種紙在播種時直接覆蓋在該育苗格盤上；

該覆蓋紙在播種后覆蓋在載有種子的播種紙上；

該覆蓋基質鋪設于覆蓋紙上。

2.根據權利要求1所述的栽培系統，其特征在于，所述栽培系統還包括營養液溫度調節系統、營養液充氧系統和營養液補給系統；

該營養液溫度調節系統包括調溫管道，循環泵，水箱，溫控開關，以及加熱和制冷設備；該調溫管道鋪設在所述營養液育苗槽下方或埋設在營養液育苗槽內；

該營養液充氧系統包括充氧泵，充氧管道，開口于營養液育苗槽內的多孔出氣口，和間歇式開關或定時器；

該營養液補給系統包括營養液罐、水泵和連通營養液罐與營養液育苗槽的管道。

3.根據權利要求1所述的栽培系統，其特征在于，所述栽培系統還包括營養液循環控溫系統，其包括營養液池，輸液管道，循環裝置，調節循環裝置運行的間歇式開關或定時器，加熱、制冷設備。

4.根據權利要求1所述的栽培系統，其特征在于，所述營養液育苗槽上設置水位控制閥，其為可調節高度的管狀結構，其一端開口于營養液育苗槽內，另一端連接溢流管道；當營養液育苗槽內的液面高過水位控制閥口時，營養液通過水位控制閥和溢流管流出營養液育苗槽，回流到營養液池中；通過調節閥口的高度，控制不同時期營養液育苗槽內營養液的液面高度。

5.根據權利要求1所述的栽培系統，其特征在于，所述營養液育苗槽的高度為8.5～9.5厘米。

6.根據權利要求1中任一項所述的栽培系統，其特征在于，所述覆蓋基質為珍珠巖或蛭石，厚度為0.5～1厘米。

7.一種應用如權利要求1、2、4、5或6所述的栽培系統進行營養液無基質育苗的方法，其特征在于，其包括如下步驟：

a.在營養液育苗槽中注入營養液；

b.育苗格盤放置于營養液育苗槽上，其上覆蓋播種紙，將種子直接播種在播種紙上；

c.在載有種子的播種紙上面覆蓋具有吸水透氣性的覆蓋紙，覆蓋紙上面覆蓋覆蓋基質；

d.利用紙張的吸水性或者定期向育苗格盤上噴水，保持覆蓋紙和覆蓋基質濕潤；

e.種子發芽后，根系穿透播種紙向下生長，上面覆蓋紙和覆蓋基質的阻力防止幼苗戴帽出土；根系長出后，幼苗植株水分、養分的供應依靠根系從下部營養液中吸收；

f.營養液充氧系統采用氣泵向營養液中定時充氧；

g.營養液溫度調節系統通過鋪設在營養液育苗槽下方或埋設在營養液育苗槽內的調溫管道冬季循環熱水，夏季循環冷水，調節營養液的溫度至秧苗生長最適溫度；

h.育苗過程中由于秧苗生長和蒸騰使營養液育苗槽中減少的營養液通過營養液補給系統及時補充。

8.一種應用如權利要求1、3、4、5或6所述的栽培系統進行營養液無基質育苗的方法，其特征在于，其包括如下步驟：

a.在營養液育苗槽中注入營養液，

b.育苗格盤放置于營養液育苗槽上，其上覆蓋播種紙，將種子直接播種在播種紙上；

c.在載有種子的播種紙上面覆蓋具有吸水透氣性的覆蓋紙，覆蓋紙上面覆蓋覆蓋基質；

d.利用紙張的吸水性或者定期向育苗格盤上噴水，保持覆蓋紙和覆蓋基質濕潤；

e.種子發芽后，根系穿透播種紙向下生長，上面覆蓋紙和覆蓋基質的阻力防止幼苗戴帽出土；根系長出后，幼苗植株水分、養分的供應依靠根系從下部營養液中吸收；

f.營養液循環控溫系統為營養液育苗槽中補充營養液，通過營養液的循環過程進行溶氧，并通過系統中的加熱、制冷設備直接調控營養液的溫度至秧苗生長最適溫度。