[發明專利]鋁鈰金屬靶材及利用該鋁鈰金屬靶材制作鋁鈰膜的方法有效
| 申請號: | 201010240059.X | 申請日: | 2010-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN102345100A | 公開(公告)日: | 2012-02-08 |
| 發明(設計)人: | 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;張成 | 申請(專利權)人: | 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;C23C14/14 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 金屬 利用 制作 鋁鈰膜 方法 | ||
1.一種鋁鈰金屬靶材,其特征在于:該鋁鈰金屬靶材包括一鋁板和若干鈰塊,該鋁板上設有若干通孔,該若干鈰塊鑲嵌于該若干通孔內。
2.如權利要求1所述的鋁鈰金屬靶材,其特征在于:所述若干通孔均勻地分布于鋁板上。
3.如權利要求1所述的鋁鈰金屬靶材,其特征在于:所述若干鈰塊占所述鋁鈰金屬靶材的質量百分含量為5%~40%。
4.一種利用權利要求1-3任意項中的鋁鈰金屬靶材制作鋁鈰膜的方法,包括以下步驟:
提供一基材;
將該基材放入一鍍膜機的真空室內,使用鋁鈰金屬靶,設置氬氣流量至50~300sccm,對鋁鈰金屬靶施加-100~-400V的偏壓,通過磁控濺射鍍膜的方法在該基材上形成一鋁鈰膜層。
5.如權利要求4所述的利用鋁鈰金屬靶材制作鋁鈰膜的方法,其特征在于:形成的鋁鈰膜厚度為1~5微米。
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