[發(fā)明專(zhuān)利]涂層、具有該涂層的被覆件及該被覆件的制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010240051.3
• 申請(qǐng)日: 2010-07-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102345091A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-02-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;馬闖
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/06
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種涂層，該涂層包括一納米復(fù)合層，其特征在于：該納米復(fù)合層包括若干NiTiCN層和若干TiCN層，所述NiTiCN層和TiCN層交替排布。

2.如權(quán)利要求1所述的涂層，其特征在于：每一NiTiCN層的厚度為10～20nm，每一TiCN層的厚度為10～20nm。

3.如權(quán)利要求1所述的涂層，其特征在于：該納米復(fù)合層的總厚度為1～4μm。

4.如權(quán)利要求1所述的涂層，其特征在于：該涂層還包括一形成于該納米復(fù)合層上的顏色層。

5.一種被覆件，該被覆件包括一基體、形成于該基體的一結(jié)合層及形成于該結(jié)合層上的一涂層，該涂層包括一納米復(fù)合層，其特征在于：該納米復(fù)合層包括若干NiTiCN層和若干TiCN層，所述NiTiCN層和TiCN層交替排布。

6.如權(quán)利要求5所述的被覆件，其特征在于：該結(jié)合層為一NiTi層，其厚度為0.05～0.2μm。

7.一種被覆件的制備方法，包括以下步驟：

提供一基體；

于該基體的表面磁控濺射一結(jié)合層，該結(jié)合層為一NiTi層；

于該結(jié)合層的表面磁控濺射一納米復(fù)合層，該納米復(fù)合層包括若干NiTiCN層和若干TiCN層，所述NiTiCN層和TiCN層交替排布。

8.如權(quán)利要求7所述的被覆件的制備方法，其特征在于：磁控濺射該結(jié)合層以鎳鈦合金靶為靶材，其功率為7～11kw，以氬氣作為惰性氣體，其流量為100～300sccm，對(duì)基體施加-100～-300V的偏壓，濺射時(shí)間為20～60min。

9.如權(quán)利要求7所述的被覆件的制備方法，其特征在于：磁控濺射該納米復(fù)合層以鎳鈦合金靶和鈦靶為交替開(kāi)啟的靶材，該二靶材的功率為7～11kw，以氮?dú)饧耙胰矠榉磻?yīng)性氣體，該氮?dú)獾牧髁繛?0～200sccm，該乙炔氣體的流量為10～100sccm，濺射溫度為100～200，濺射時(shí)間為30～120min。

10.如權(quán)利要求7或9所述的被覆件的制備方法，其特征在于：該鎳鈦合金靶中Ni的質(zhì)量百分含量為20～80％。