[發明專利]涂層、具有該涂層的被覆件及該被覆件的制備方法

無效

• 申請號: 201010240051.3
• 申請日: 2010-07-29
• 公開（公告）號: CN102345091A
• 公開（公告）日: 2012-02-08
• 發明（設計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;馬闖
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種涂層，該涂層包括一納米復合層，其特征在于：該納米復合層包括若干NiTiCN層和若干TiCN層，所述NiTiCN層和TiCN層交替排布。

2.如權利要求1所述的涂層，其特征在于：每一NiTiCN層的厚度為10～20nm，每一TiCN層的厚度為10～20nm。

3.如權利要求1所述的涂層，其特征在于：該納米復合層的總厚度為1～4μm。

4.如權利要求1所述的涂層，其特征在于：該涂層還包括一形成于該納米復合層上的顏色層。

5.一種被覆件，該被覆件包括一基體、形成于該基體的一結合層及形成于該結合層上的一涂層，該涂層包括一納米復合層，其特征在于：該納米復合層包括若干NiTiCN層和若干TiCN層，所述NiTiCN層和TiCN層交替排布。

6.如權利要求5所述的被覆件，其特征在于：該結合層為一NiTi層，其厚度為0.05～0.2μm。

7.一種被覆件的制備方法，包括以下步驟：

提供一基體；

于該基體的表面磁控濺射一結合層，該結合層為一NiTi層；

于該結合層的表面磁控濺射一納米復合層，該納米復合層包括若干NiTiCN層和若干TiCN層，所述NiTiCN層和TiCN層交替排布。

8.如權利要求7所述的被覆件的制備方法，其特征在于：磁控濺射該結合層以鎳鈦合金靶為靶材，其功率為7～11kw，以氬氣作為惰性氣體，其流量為100～300sccm，對基體施加-100～-300V的偏壓，濺射時間為20～60min。

9.如權利要求7所述的被覆件的制備方法，其特征在于：磁控濺射該納米復合層以鎳鈦合金靶和鈦靶為交替開啟的靶材，該二靶材的功率為7～11kw，以氮氣及乙炔為反應性氣體，該氮氣的流量為10～200sccm，該乙炔氣體的流量為10～100sccm，濺射溫度為100～200，濺射時間為30～120min。

10.如權利要求7或9所述的被覆件的制備方法，其特征在于：該鎳鈦合金靶中Ni的質量百分含量為20～80％。