[發明專利]電子照相感光體和包含所述電子照相感光體的成像裝置

有效

• 申請號: 201010239699.9
• 申請日: 2010-07-27
• 公開（公告）號: CN101968612A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: 中村知己;片山聰
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: G03G5/06
• 分類號: G03G5/06;G03G5/14;G03G15/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 楊海榮;穆德駿

1.一種電子照相感光體，其在導電支持體和感光層之間包含底涂層，其中

所述底涂層至少含有第一粘合劑樹脂和以無水二氧化硅包覆的金屬氧化物微粒，

所述感光層是至少含有電荷產生材料和電荷輸送材料的單層型感光層，或者是由含有電荷產生材料的電荷產生層和含有電荷輸送材料的電荷輸送層以此順序或相反順序層疊而形成的多層型感光層，和

所述電荷產生材料含有結晶型氧鈦酞菁和X型無金屬酞菁，所述結晶型氧鈦酞菁在用Cu-Kα特征X射線(0.15418nm)的X射線衍射光譜中，在布拉格角(2θ±0.2°)為7.3°、9.4°、9.6°、11.6°、13.3°、17.9°、24.1°和27.2°處具有峰，其中9.4°和9.6°處的峰重疊形成的峰束是最大的峰，27.2°處的峰是第二大的峰；所述X型無金屬酞菁在該X射線衍射光譜中在布拉格角(2θ±0.2°)為7.5°、9.1°、16.7°、17.3°和22.3°處具有峰。

2.權利要求1的電子照相感光體，其中所述X型無金屬酞菁以相對于所述結晶型氧鈦酞菁為10～70重量％的比例包含在所述感光層中。

3.權利要求1的電子照相感光體，其中所述X型無金屬酞菁以相對于所述結晶型氧鈦酞菁為40～70重量％的比例包含在所述感光層中。

4.權利要求1的電子照相感光體，其中所述電荷產生層含有第二粘合劑樹脂，并且所述電荷產生材料與所述第二粘合劑樹脂之間的重量比是10∶90～99∶1。

5.權利要求1的電子照相感光體，其中所述金屬氧化物微粒具有0.1～50重量％比例的無水二氧化硅。

6.權利要求1的電子照相感光體，其中所述金屬氧化物微粒是氧化鈦，所述第一粘合劑樹脂是聚酰胺樹脂。

7.權利要求1的電子照相感光體，其中所述金屬氧化物微粒與所述第一粘合劑樹脂之間的重量比是10∶90～95∶5。

8.權利要求1的電子照相感光體，其中所述金屬氧化物微粒的平均一次粒徑為20nm～100nm。

9.權利要求1的電子照相感光體，其中所述底涂層的厚度為0.05μm～5μm。

10.權利要求1的電子照相感光體，其中所述感光層是多層型感光層。

11.權利要求1的電子照相感光體，其中所述感光層是其中電荷產生層和電荷輸送層以此順序層疊的多層型感光層。

12.一種成像裝置，其至少包含：

權利要求1的電子照相感光體；使所述電子照相感光體帶電的帶電單元；使帶電的所述電子照相感光體曝光以形成靜電潛像的曝光單元；使通過曝光形成的所述靜電潛像顯影以形成調色劑圖像的顯影單元；將通過顯影形成的所述調色劑圖像轉印到記錄材料上的轉印單元；將轉印的所述調色劑圖像固定在所述記錄材料上以形成圖像的定影單元；以及將殘留在所述電子照相感光體上的調色劑去除和回收的清潔單元，

其中所述曝光單元是利用半導體激光器、以1200dpi以上的像素密度曝光所述電子照相感光體的表面以形成靜電潛像的曝光裝置。