[發(fā)明專利]一種高光澤高透明度的珍珠制備方法

無效

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• 申請日: 2010-07-27
• 公開（公告）號: CN102334784A
• 公開（公告）日: 2012-02-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張康
• 申請（專利權(quán)）人: 張康
• 主分類號: A44C27/00
• 分類號: A44C27/00;C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及珍珠的加工技術(shù)，具體涉及一種高光澤高透明度的珍珠制備方法。

背景技術(shù)

光澤是評價珍珠質(zhì)量的一個重要指標.，通過增光來改善珍珠的光澤是珍珠加工工藝中的重要工序。目前的增光技術(shù)，主要采用化學藥物浸泡、蒸煮等方法對珍珠表面及內(nèi)部的污物進行溶解、吸附。同時采用拋光材料等對珍珠表面進行打磨，磨掉珍珠表面的部分突起和雜物，拋光過程中也結(jié)合拋光蠟一同使用，填充珍珠表面的空隙和空洞，以此來改善珍珠對光的反射及折射效果，從而提高珍珠的光澤及透明度。現(xiàn)有的珍珠增光技術(shù)不能完全解決所有珍珠的增光問題，增光效果不穩(wěn)定，對珍珠光澤及透明度的提升有限。特別是部分死光珠、弱光珠，難以通過現(xiàn)有的增光技術(shù)使得光澤及透明度獲得有效提升。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是克服上述技術(shù)缺陷的方法，提供了一種新型珍珠加工技術(shù)方法，它以天然珍珠、養(yǎng)殖珍珠為基材，通過濺射法在其表面復合一層透明膜層，其膜層與珍珠結(jié)合牢固、厚薄均勻、無色透明、耐磨、性質(zhì)穩(wěn)定，不僅不遮蓋珍珠本身的顏色，還能有效提高珍珠的光澤度及透明度，珍珠光澤能夠達到強B以上，反射光明亮，表面映像清晰。

為此，本發(fā)明采用如下的技術(shù)方案，一種高光澤高透明度的珍珠制備方法，其步驟依次如下：

1.鍍膜前的鍍膜前的珍珠清洗及干燥處理；

a對珍珠進行超聲波除蠟，噴淋清洗；

b對珍珠進行超聲波除油，噴淋清洗；

c對珍珠進行純水超聲波處理2次以上；

d對珍珠進行純水漂洗2次以上；

e對珍珠進行熱風干燥；

2.將洗凈干燥后的珍珠固定在真空多弧離子鍍膜機爐膛內(nèi)的轉(zhuǎn)架上，采用真空機組進行抽排大氣，真空度保持在1.0-5.0×10^-3；

3.采用紅外線加溫至30-150℃；

4.通入氧氣，濺射總氣壓范圍為0.1～7Pa；

5.將Ti靶加負偏電壓到400-600V，進行鍍膜，鍍膜時間為1-30分鐘。

上述的制備方法中，采用超聲波除油除污、噴淋，純水超聲波處理、純水漂洗，以及熱風烘干，能夠獲得潔凈的珍珠表面，為獲得牢固、均勻的膜層奠定基礎(chǔ)。

上述的制備方法中，采用紅外線加熱爐膛溫度至30-150℃，爐內(nèi)溫度越高，膜層越牢固，同時在此溫度范圍內(nèi)不損傷珍珠。

上述的制備方法中，真空度保持在1.0-5.0×10^-3，真空度越高膜層透明度越高，膜層顏色越純正，鍍膜效果越好。

上述的制備方法中，非金屬膜為一層，非金屬為二氧化鈦，無毒性。鍍制的鍍層無色，具有良好的透明度、薄膜均勻、結(jié)合緊密、耐磨，厚薄可控制等優(yōu)點，極薄的透明膜層提高了珍珠的光澤及透明度。

上述的制備方法中，二氧化鈦膜層通過直流磁控反應濺射法獲得，鍍層厚在30nm-1000nm，膜層厚度可根據(jù)客戶需求控制，適合工業(yè)化生產(chǎn)。

本發(fā)明它以天然珍珠、養(yǎng)殖珍珠為基材，在其表面復合一層透明膜層，其膜層與珍珠結(jié)合牢固、厚薄均勻、無色透明、耐磨、性質(zhì)穩(wěn)定，不僅不遮蓋珍珠本身的顏色，還能有效提高珍珠的光澤度及透明度，珍珠光澤能夠達到強B以上，反射光明亮，表面映像清晰。

下面結(jié)合具體實施方式對本發(fā)明作詳細說明。

具體實施方式

實施例

鍍膜步驟依次如下：

1.將珍珠浸泡在超聲波清洗設(shè)備中，加入除蠟劑和水，超聲波清洗2-10分鐘，取出后用水充分噴淋清洗；

2.將步驟1清洗后的珍珠浸泡在超聲波清洗設(shè)備中，加入除油粉和水，超聲波清洗2-10分鐘，取出后用水充分噴淋清洗；

3.將步驟2清洗后的珍珠浸泡在超聲波清洗設(shè)備中，加入純水，超聲波清洗2-10分鐘，重復2次以上；

4.將步驟3清洗后的珍珠進行純水漂洗2次以上；

5.將步驟4清洗后的珍珠在30-50℃進行熱風干燥；

6.將洗凈干燥后的珍珠固定在真空多弧離子鍍膜機爐膛內(nèi)的轉(zhuǎn)架上，采用真空機組進行抽排大氣，真空度保持在1.0-5.0×10^-3；

7.采用紅外線將爐內(nèi)溫度加溫至30-150℃；

8.在爐內(nèi)通入氧氣，濺射總氣壓范圍為0.1～7Pa，

9.將純度為99.99％的Ti靶加負偏電壓到400-600V，進行鍍膜，鍍膜時間為1-30分鐘。

經(jīng)過本發(fā)明制備的珍珠，具有較高的光澤度及透明度，珍珠光澤能夠達到強B以上，反射光明亮，表面映像清晰。