[發明專利]波動探測方法中非線性誤差的基波和奇次諧波消除法

無效

• 申請號: 201010238444.0
• 申請日: 2010-07-28
• 公開（公告）號: CN101936747A
• 公開（公告）日: 2011-01-05
• 發明（設計）人: 孫強;李也凡
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G01D3/036
• 分類號: G01D3/036
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所 22210
• 代理人: 南小平

1.波動探測方法中非線性誤差的基波和奇次諧波消除法，其特征在于，該方法是：在存在對于被測量的周期性的非線性誤差的波動信號的通道上，將混頻部分或相位檢出部分由一路增加到兩路，并通過對檢出信號中所包含的周期性誤差信號的相位做連續的調節或設置，使這兩路輸出中的周期性誤差干擾成分的基波的相位差互為180°或180°+2nπ，其中，n是整數，然后，通過后續的電子學處理來消除或減小這些周期性誤差的基波和奇次諧波成分。

2.如權利要求1所述的波動探測方法中非線性誤差的基波和奇次諧波消除法，其特征在于，若所述的波動探測方法為光外差干涉測量法，則該光外差干涉測量法中非線性誤差的基波和奇次諧波的消除法是：在存在周期性非線性誤差的干涉光路上，將光電探測部分由一個增加到兩個，并通過連續地調節或設置其至少一路的光電探測器接收到的參考光與測量光之間的相位差，來實現使兩個光電探測器接收到的干涉光中的周期性非線性誤差干擾成分基波的相位差互為180°或180°+2nπ，其中，n是整數，然后，通過后續的電子學處理來消除或減小非線性誤差的基波和奇次諧波成分。

3.如權利要求2所述的波動探測方法中非線性誤差的基波和奇次諧波消除法，其特征在于，所述調節或設置光電探測器接收到的參考光與測量光之間的相位差的方法是：將測量光和參考光各分成兩束，再分別作差頻干涉，得到兩路外差干涉光束，分別由兩個光電探測器探測，并通過調節至少一個干涉光路中參與干涉的測量光和參考光中的至少一個光束的光程，來調節參與干涉的測量光和參考光的光程差。

4.如權利要求2或3所述的波動探測方法中非線性誤差的基波和奇次諧波消除法，其特征在于，所述調節光電探測器接收到的參考光與測量光之間相位差的方法是由兩個對稱的折射率相等的楔型光學介質塊實現的，每個介質塊的兩個光學面之間具有相同的夾角，在光線入射和出射的位置處，兩光學介質塊的介質表面垂直于光線；兩光學介質塊相鄰的光學面平行且不垂直于入射和出射光線，在調整相位時，平行的兩個光學面間的距離保持不變。

5.如權利要求4所述的波動探測方法中非線性誤差的基波和奇次諧波消除法，其特征在于，所述兩個楔型光學介質塊相平行的光學平面與垂直于光線的平面之間的夾角不大于0.1度。