[發(fā)明專利]磁頭組、磁記錄介質(zhì)處理裝置及磁頭保持用框體有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010237874.0 | 申請日： | 2006-08-30 |
| 公開（公告）號： | CN101964193A | 公開（公告）日： | 2011-02-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 山中信幸 | 申請（專利權(quán)）人： | 日本電產(chǎn)三協(xié)株式會(huì)社 |
| 主分類號： | G11B5/48 | 分類號： | G11B5/48;G11B5/41 |
| 代理公司： | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人： | 胡曉萍 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 磁頭 記錄 介質(zhì) 處理 裝置 保持 用框體 | ||
1.一種磁記錄介質(zhì)處理裝置，其特征在于，包括：
與磁記錄介質(zhì)接觸而進(jìn)行磁性數(shù)據(jù)的讀取/寫入的磁頭；
與所述磁頭相對設(shè)置、使所述磁記錄介質(zhì)與所述磁頭接觸的對置構(gòu)件；以及
保持所述對置構(gòu)件、將該對置構(gòu)件固定在使用位置且將所述對置構(gòu)件移動(dòng)到退避位置使所述磁頭的接觸面露出的保持構(gòu)件。
2.如權(quán)利要求1所述的磁記錄介質(zhì)處理裝置，其特征在于，所述對置構(gòu)件是對置輥。
3.如權(quán)利要求1所述的磁記錄介質(zhì)處理裝置，其特征在于，所述對置構(gòu)件是與磁記錄介質(zhì)的與所述磁頭接觸的面相反的面接觸的第二磁頭。
4.如權(quán)利要求1或2所述的磁記錄介質(zhì)處理裝置，其特征在于，所述保持構(gòu)件在一端具有使所述對置構(gòu)件轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸，在與該轉(zhuǎn)動(dòng)軸相反的一側(cè)的另一端上具有鎖定構(gòu)件。
5.如權(quán)利要求4所述的磁記錄介質(zhì)處理裝置，其特征在于，所述鎖定構(gòu)件包括：與固定在磁記錄介質(zhì)處理裝置的框架上的卡扣部卡合的卡合部、以及在該卡合部與所述卡扣部之間施加相對的施力的彈簧。
6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的磁記錄介質(zhì)處理裝置，其特征在于，包括傳感器，該傳感器輸出表示由所述保持構(gòu)件將所述對置構(gòu)件保持在所述使用位置的信號。?
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