[發明專利]一種無基底濾光片的制備方法無效
| 申請號： | 201010237599.2 | 申請日： | 2010-07-27 |
| 公開（公告）號： | CN101915951A | 公開（公告）日： | 2010-12-15 |
| 發明（設計）人： | 胡小鋒;程春生;班超;孔德恒;楊光;劉毅楠;趙浩 | 申請（專利權）人： | 平湖中天合波通信科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/20 | 分類號： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人： | 周濤 |
| 地址： | 314200 浙江省平湖市經濟開發*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基底 濾光 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種無基底濾光片的制備方法，其特征在于，該方法包括如下步驟：
①在玻璃基底上鍍制可剝離層，該可剝離層采用活潑金屬形成金屬單層；
②在所述的金屬單層上，鍍制濾光片的膜系，該膜系由低折射率材料和高折射率材料相間組成，其中膜系的底層和頂層均為低折射率材料；
③將上述結構的材料按照產品的最終尺寸切割；
④將切割后的小片在酸性溶液進行刻蝕，剝離層的活潑金屬在酸性溶液中腐蝕和溶解，直至金屬單層被刻蝕完成；
⑤待濾光片和玻璃基底實現分離后，取出分離后的濾光片清潔干凈，得到無基底濾光片產品。
2.根據權利要求1所述的一種無基底濾光片的制備方法，其特征在于，所述步驟①中的活潑金屬或為鋁、或為鐵、或為銅。
3.根據權利要求1所述的一種無基底濾光片的制備方法，其特征在于，所述步驟①中鍍制可剝離層的工藝為真空鍍膜，采用磁控濺射、電子槍蒸發或者阻蒸。
4.根據權利要求1所述的一種無基底濾光片的制備方法，其特征在于，所述步驟②中的低折射率材料為SiO2，所述高折射率材料為滿足光譜設計要求的材料，選擇Ta2O5、Nb2O5和TiO2中的一種。
5.根據權利要求1所述的一種無基底濾光片的制備方法，其特征在于，所述步驟④的剝離過程中，可對剝離液進行加熱以縮短剝離時間，加熱溫度＜100℃。
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