[發(fā)明專利]光學(xué)斷層成像裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010237383.6
• 申請(qǐng)日: 2010-07-23
• 公開（公告）號(hào): CN101986185A
• 公開（公告）日: 2011-03-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 武藤健二;北村健史
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G02B27/09
• 分類號(hào): G02B27/09;G02B27/00;A61B3/14;A61B3/12;G01N21/45
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 楊小明

1.一種光學(xué)斷層成像裝置，該光學(xué)斷層成像裝置將來自光源的光分割成測量光束和參考光束，將測量光束引向?qū)ο蟛⒖脊馐騾⒖挤瓷溏R，檢測對(duì)被所述對(duì)象反射或散射的測量光束的返回光束和被所述參考反射鏡反射的參考光束進(jìn)行組合的光束，并且執(zhí)行所述對(duì)象的斷層成像，該光學(xué)斷層成像裝置包括：

光束直徑調(diào)整單元，所述光束直徑調(diào)整單元被配置為調(diào)整要被引向所述對(duì)象的測量光束的光束直徑；

檢測單元，所述檢測單元包含分光單元、圖像形成單元和光電轉(zhuǎn)換單元陣列，并被配置為檢測所述組合光束；和

改變單元，所述改變單元被配置為基于由光束直徑調(diào)整單元調(diào)整的光束直徑讀取來自光電轉(zhuǎn)換元件陣列的信號(hào)、并且改變用于成像的像素的數(shù)量與光源的波長帶寬的比。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)斷層成像裝置，還包括：

第一控制單元，所述第一控制單元被配置為控制參考反射鏡的位置；和

第二控制單元，所述第二控制單元被配置為控制會(huì)聚單元的位置，所述會(huì)聚單元被配置為使測量光束被會(huì)聚在對(duì)象上；

其中，光學(xué)斷層成像裝置使用第一控制單元和第二控制單元來從成像的開始到結(jié)束控制參考反射鏡和會(huì)聚單元的各位置，以執(zhí)行對(duì)象的斷層成像。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)斷層成像裝置，還包括被配置為稀疏化要從光電轉(zhuǎn)換元件陣列讀取的像素的單元，

其中，所述光學(xué)斷層成像裝置可在減少要讀取的像素的數(shù)量的同時(shí)通過使用由所述光束直徑調(diào)整單元調(diào)整的大的光束直徑以高分辨率執(zhí)行成像。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)斷層成像裝置，所述光學(xué)斷層成像裝置包含多個(gè)檢測單元，

其中，所述多個(gè)檢測單元關(guān)于光電轉(zhuǎn)換元件陣列的像素?cái)?shù)量與光源的波長帶寬的比被配置為相互不同，并且，

光學(xué)斷層成像裝置可基于由所述光束直徑調(diào)整單元調(diào)整的光束直徑選擇所述多個(gè)檢測單元中的任一個(gè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)斷層成像裝置，

其中，所述圖像形成單元由變焦透鏡制成，并且，

所述光學(xué)斷層成像裝置使用所述變焦透鏡以基于由所述光束直徑調(diào)整單元調(diào)整的光束直徑改變光電轉(zhuǎn)換元件陣列的每個(gè)像素的波長寬度并使圖像被形成在光電轉(zhuǎn)換元件陣列上，并且基于圖像形成范圍中的像素的數(shù)據(jù)形成斷層圖像。

6.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)斷層成像裝置，

其中，所述圖像形成單元由變焦透鏡構(gòu)成，并且，光電轉(zhuǎn)換元件陣列被分割成各區(qū)域，并且，

其中，所述光學(xué)斷層成像裝置使用變焦透鏡以基于由光束直徑調(diào)整單元調(diào)整的光束直徑改變光電轉(zhuǎn)換元件陣列的每個(gè)像素的波長寬度，并且使圖像形成在所述分割區(qū)域中的至少一個(gè)上，并且，

其中，可以與其它的分割區(qū)域獨(dú)立地讀取圖像形成范圍中的像素的數(shù)據(jù)。

7.一種成像裝置，所述成像裝置基于對(duì)來自被測量光束照射的對(duì)象的返回光束和與測量光束對(duì)應(yīng)的參考光束進(jìn)行組合的組合光束捕獲光學(xué)干涉斷層圖像，該成像裝置包括：

光束直徑改變單元，所述光束直徑改變單元被配置為改變所述測量光束的光束直徑；和

檢測單元，所述檢測單元被配置為以與光束直徑對(duì)應(yīng)的分辨率檢測所述組合光束。

8.根據(jù)權(quán)利要求7的成像裝置，還包括位置改變單元，所述位置改變單元被配置為基于所述測量光束和所述參考光束之間的光路長度差改變相干門的位置，

其中，所述檢測單元被配置為以與光束直徑以及所述位置對(duì)應(yīng)的分辨率檢測所述組合光束。

9.根據(jù)權(quán)利要求7的成像裝置，其中，所述檢測單元包含：

分光單元，所述分光單元被配置為分離所述組合光束；

范圍改變單元，所述范圍改變單元被配置為基于光束直徑改變將要照射分離的光束的范圍；

傳感器，所述傳感器被配置為檢測來自所述范圍改變單元的光；和

獲取單元，所述獲取單元被配置為基于來自所述傳感器的范圍的輸出信號(hào)獲取所述對(duì)象的光學(xué)干涉斷層圖像。

10.根據(jù)權(quán)利要求9的成像裝置，其中，所述范圍改變單元被配置為根據(jù)光束直徑改變要通過分離的光束在其上形成圖像的檢測單元上的像素的數(shù)量和分離的光束的波長寬度中的一個(gè)。