[發明專利]硒油墨及其制備和使用方法

有效

• 申請號: 201010235827.2
• 申請日: 2010-07-14
• 公開（公告）號: CN101956193A
• 公開（公告）日: 2011-01-26
• 發明（設計）人: D·莫斯利;K·卡爾茲亞
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號: C23C26/00
• 分類號: C23C26/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳哲峰;周承澤

1.一種硒油墨，其包含：

以下組分的反應產物：

≥1重量％的硒；

無痕跡還原劑；

液體載體；

其中所述硒油墨是穩定的分散體，所述硒油墨不含肼且不含肼鎓。

2.如權利要求1所述的硒油墨，其特征在于，所述無痕跡還原劑的分子量選自≥35和＜35；其中分子量＜35的無痕跡還原劑的分子式中包含≤1個氮原子。

3.如權利要求1所述的硒油墨，其特征在于，所述無痕跡還原劑選自甲酸；甲酸銨；草酸銨；草酸；甲酰胺；乳酸鹽；一氧化碳；氫氣；異抗壞血酸；二氧化硫；乙醛；醛類及其組合。

4.如權利要求1所述的硒油墨，其特征在于，所述液體載體是化學式為NR₃的液態胺，其中各個R獨立地選自H，C_1-10烷基，C_6-10芳基和C_1-10烷基氨基。

5.如權利要求1所述的硒油墨，其特征在于，所述液體載體選自乙二胺，二亞乙基三胺，正丁胺，正己胺，辛基胺，2-乙基-1-己基胺，3-氨基-1-丙醇，吡啶，吡咯烷和四甲基胍。

6.如權利要求1所述的硒油墨，其特征在于，所述反應產物是分散在液體載體中的(抗衡離子)硒離子配合物；其中所述(抗衡離子)硒離子配合物包含與選自銨抗衡離子和胺抗衡離子的抗衡離子配合的硒。

7.一種制備硒油墨的方法，其包括：

提供硒；

提供無痕跡還原劑；

提供液體載體；

將所述硒和液體載體混合；

將所述無痕跡還原劑加入所述混合的硒和液體載體中，形成混合物；以及

在攪拌條件下加熱所述混合物，將所述硒轉化為(抗衡離子)硒離子配合物，形成所述硒油墨；

其中，所述(抗衡離子)硒離子配合物穩定地分散在液體載體中；所述硒離子油墨不含肼且不含肼鎓。

8.如權利要求7所述的方法，其特征在于，相對于硒，提供的所述無痕跡還原劑量為2-40摩爾當量。

9.一種在基材上沉積硒的方法，該方法包括：

提供基板；

提供權利要求1所述的硒油墨；

將所述硒油墨施涂于所述基材，在基材上形成硒前體；

對所述硒前體進行處理，以除去所述液體載體，在基材上沉積硒；所述沉積在基材上的硒是Se⁰和Se^1-的混合物。

10.一種用來制備第1a-1b-3a-6a族材料的方法，該方法包括：

提供基材；

任選地，提供包含鈉的第1a族來源；

提供第1b族來源；

提供第3a族來源；

任選地，提供第6a族硫來源；

提供第6a族硒來源，其中所述第6a族硒來源包含權利要求1所述的硒油墨；

通過以下方式在基材上形成至少一種第1a-1b-3a-6a族前體材料：任選地使用所述第1a族來源在基材上施涂鈉，使用第1b族來源在基材上施涂第1b族材料，使用第3a族來源在基材上施涂第3a族材料，任選使用第6a族硫來源在基材上施涂硫材料，使用第6a族硒來源在基材上施涂硒材料；

處理所述前體材料，形成化學式為Na_LX_mY_nS_pSe_q的第1a-1b-3a-6a族材料；

其中X是選自銅和銀的至少一種第1b族元素；Y是選自鋁、鎵和銦的至少一種第3a族元素；0≤L≤0.75；0.25≤m≤1.5；n＝1；0≤p＜2.5；0＜q≤2.5；且1.8≤(p+q)≤2.5。