[發(fā)明專利]多頭對準(zhǔn)系統(tǒng)中的對準(zhǔn)頭的位置校準(zhǔn)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010233634.3 | 申請日： | 2010-07-16 |
| 公開（公告）號： | CN101957567A | 公開（公告）日： | 2011-01-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 兼子毅之;R·T·P·康姆彭 | 申請（專利權(quán)）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 多頭 對準(zhǔn) 系統(tǒng) 中的 準(zhǔn)頭 位置 校準(zhǔn) | ||
1.一種用一個或更多個主對準(zhǔn)頭校準(zhǔn)一個或更多個輔對準(zhǔn)頭的方法，其中
所述主對準(zhǔn)頭測量對準(zhǔn)標(biāo)記；
至少一個輔對準(zhǔn)頭測量相同的對準(zhǔn)標(biāo)記；和
所述輔對準(zhǔn)頭相對于所述主對準(zhǔn)頭的偏移量由在所述對準(zhǔn)標(biāo)記上實施的測量獲得。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述主對準(zhǔn)頭測量與每一個所述輔對準(zhǔn)頭共同的至少一個對準(zhǔn)標(biāo)記。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中通過所述主對準(zhǔn)頭和每一個所述輔對準(zhǔn)頭兩者測量所有所述對準(zhǔn)標(biāo)記。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中通過所述多個對準(zhǔn)頭并行地實施所述多個測量。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述測量步驟包括：對于每個測量頭，使所述對準(zhǔn)標(biāo)記處于焦點處。
6.一種晶片對準(zhǔn)的方法，其被執(zhí)行作為光刻過程的準(zhǔn)備步驟，其中所述晶片通過對準(zhǔn)系統(tǒng)進行測量，所述對準(zhǔn)系統(tǒng)包括：包括主對準(zhǔn)頭的主對準(zhǔn)系統(tǒng)和包括一個或更多個輔對準(zhǔn)頭的輔對準(zhǔn)系統(tǒng)；所述方法包括步驟：
執(zhí)行主基線校準(zhǔn)以使所述主對準(zhǔn)頭相對于參照物體對準(zhǔn)；
執(zhí)行輔基線校準(zhǔn)以使所述輔對準(zhǔn)頭相對于所述主對準(zhǔn)頭對準(zhǔn)；和
相對于所述主對準(zhǔn)頭校準(zhǔn)一個或更多個輔對準(zhǔn)頭，其中：
所述主對準(zhǔn)頭測量對準(zhǔn)標(biāo)記；
至少一個輔對準(zhǔn)頭測量相同的對準(zhǔn)標(biāo)記；和
所述輔對準(zhǔn)頭相對于所述主對準(zhǔn)頭的偏移量由在所述對準(zhǔn)標(biāo)記上實施的測量獲得。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中所述主對準(zhǔn)頭測量與每一個所述輔對準(zhǔn)頭共同的至少一個對準(zhǔn)標(biāo)記。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的方法，其中通過所述多個對準(zhǔn)頭并行地實施所述多個測量。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中所述測量步驟包括：對于每個測量頭，使所述對準(zhǔn)標(biāo)記處于焦點處。
10.一種校準(zhǔn)設(shè)備，包括：
對準(zhǔn)系統(tǒng)，包括：
主對準(zhǔn)系統(tǒng)，包括主對準(zhǔn)頭和用于探測對準(zhǔn)標(biāo)記的傳感器；
輔對準(zhǔn)系統(tǒng)，包括一個或更多個輔對準(zhǔn)頭，每一個輔對準(zhǔn)頭包括
用于探測對準(zhǔn)標(biāo)記的傳感器；
機構(gòu)，用于在所述主對準(zhǔn)頭測量對準(zhǔn)標(biāo)記所在的第一位置和輔對準(zhǔn)頭測量相同的對準(zhǔn)標(biāo)記所在的第二位置之間移動所述對準(zhǔn)系統(tǒng)，
編碼器，用于測量所述對準(zhǔn)系統(tǒng)的位置；和
處理器，用于接收來自對準(zhǔn)系統(tǒng)傳感器的測量值和來自用于移動所述對準(zhǔn)系統(tǒng)的所述機構(gòu)的位置信息；和根據(jù)所述測量值計算所述輔對準(zhǔn)頭相對于所述主對準(zhǔn)頭的偏移量。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的校準(zhǔn)設(shè)備，其中所述機構(gòu)適于移動所述主對準(zhǔn)頭以測量與每一個所述輔對準(zhǔn)頭共同的至少一個對準(zhǔn)標(biāo)記。
12.一種光刻設(shè)備，包括：
校準(zhǔn)設(shè)備，包括：
對準(zhǔn)系統(tǒng)，包括：
主對準(zhǔn)系統(tǒng)，包括主對準(zhǔn)頭和用于探測對準(zhǔn)標(biāo)記的傳感器；
輔對準(zhǔn)系統(tǒng)，包括一個或更多個輔對準(zhǔn)頭，每一個輔對準(zhǔn)頭包括用于探測對準(zhǔn)標(biāo)記的傳感器；
機構(gòu)，用于：
在用以執(zhí)行主基線校準(zhǔn)以使所述主對準(zhǔn)頭相對于參考物體對準(zhǔn)的測量位置和用以執(zhí)行輔基線校準(zhǔn)以使所述輔對準(zhǔn)頭相對于所述主對準(zhǔn)頭對準(zhǔn)的測量位置之間移動所述對準(zhǔn)系統(tǒng)；以及
在所述主對準(zhǔn)頭測量對準(zhǔn)標(biāo)記所在的第一位置和輔對準(zhǔn)頭測量相同的對準(zhǔn)標(biāo)記所在的第二位置之間移動所述對準(zhǔn)系統(tǒng)；
編碼器，用于測量所述對準(zhǔn)系統(tǒng)的位置；和
處理器，用于接收來自對準(zhǔn)系統(tǒng)傳感器的測量值和來自用于移動所述對準(zhǔn)系統(tǒng)的所述機構(gòu)的位置信息；和根據(jù)所述測量值計算所述輔對準(zhǔn)頭相對于所述主對準(zhǔn)頭的偏移量。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光刻設(shè)備，其中所述機構(gòu)適于移動所述主對準(zhǔn)頭以測量與每一個所述輔對準(zhǔn)頭共同的至少一個對準(zhǔn)標(biāo)記。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的光刻設(shè)備，其中，通過所述多個對準(zhǔn)頭實施所述多個測量。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光刻設(shè)備，還包括用于使所述對準(zhǔn)標(biāo)記或每個對準(zhǔn)標(biāo)記處于焦點的機構(gòu)。
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