[發(fā)明專利]銻化銦材料表面化學(xué)機(jī)械拋光液的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010232257.1
• 申請日: 2010-07-21
• 公開（公告）號(hào): CN102020923A
• 公開（公告）日: 2011-04-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉玉嶺;王娟;李暉
• 申請（專利權(quán)）人: 天津晶嶺微電子材料有限公司
• 主分類號(hào): C09G1/02
• 分類號(hào): C09G1/02
• 代理公司: 天津市三利專利商標(biāo)代理有限公司 12107
• 代理人: 肖莉麗

1.一種銻化銦材料表面化學(xué)機(jī)械拋光液的制備方法，其特征在于，包括下述步驟：

(1)使用電阻為18MΩ以上的超純水對透明密閉反應(yīng)釜及進(jìn)料管道進(jìn)行清洗，使清洗后廢液的電阻不低于16MΩ；所述透明密閉反應(yīng)釜的材料為聚丙烯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂中的任一種；

(2)將胺堿通過步驟(1)清洗過的進(jìn)料管道加入到步驟(1)已清洗過的透明密閉的反應(yīng)釜中，對透明密閉反應(yīng)釜抽真空使透明密閉反應(yīng)釜內(nèi)呈負(fù)壓完全渦流狀態(tài)，形成完全渦流攪拌；

(3)邊進(jìn)行完全渦流攪拌邊通過步驟(1)清洗后的管道將活性劑、FA/O螯合劑依次加入到透明密閉反應(yīng)釜中，持續(xù)保持完全渦流狀態(tài)；

(4)邊進(jìn)行完全渦流攪拌邊將質(zhì)量百分比濃度為50％、粒徑為15-25nm、莫氏硬度為7的硅溶膠通過步驟(1)清洗后的管道抽入到透明密閉反應(yīng)釜中，充分完全渦流攪拌5-15分鐘后得到pH值為9-12的拋光液

得到的拋光液按質(zhì)量百分比的組成為：質(zhì)量百分比濃度為50％、粒徑為15-25nm、莫氏硬度為7的硅溶膠80-96.4％，活性劑0.5-5％，F(xiàn)A/O螯合劑0.1-5％，胺堿3-10％。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銻化銦材料表面化學(xué)機(jī)械拋光液的制備方法，其特征在于，所述胺堿為羥乙基乙二胺、三乙醇胺、四甲氫氧化銨中的任一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銻化銦材料表面化學(xué)機(jī)械拋光液的制備方法，其特征在于，拋光液總量不超過透明密閉反應(yīng)釜容量的4/5。