[發明專利]滾筒式鍍膜設備

無效

• 申請號: 201010225958.2
• 申請日: 2010-07-14
• 公開（公告）號: CN102327839A
• 公開（公告）日: 2012-01-25
• 發明（設計）人: 裴紹凱
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: B05C1/08
• 分類號: B05C1/08;B05C11/10;B05C9/14;B05C9/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種滾筒式鍍膜設備。

背景技術

鍍膜是指通過物理或化學方法在光學元件表面鍍上單層或多層薄膜。光學元件的鍍膜制程通常為：首先，將光學元件安裝于鍍膜治具上，鍍膜治具設置于一容器中；其次，密閉容器，對容器抽真空；然后，以蒸鍍或濺鍍等方法在光學元件需要鍍膜的部位進行鍍膜；最后，打開容器，將經過鍍膜的光學元件從鍍膜治具上拆卸下來。也即是說，現有的蒸鍍或濺鍍的鍍膜技術中一般需要在真空條件下進行，如此，不僅設備成本較高，而且當需要更換鍍膜材料時，還需重新抽真空，使得鍍膜不連續，效率低下且鍍膜質量難以保證。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種效率高且能夠保證鍍膜質量的滾筒式鍍膜設備。

一種滾筒式鍍膜設備，于大氣壓環境下對待鍍膜基材進行鍍膜。該滾筒式鍍膜設備包括：承載裝置，形成有一收容槽；基座，設置在該收容槽底部，用于支撐至少一待鍍膜基材；清洗裝置和加熱裝置，設置在收容槽內并固定在承載裝置中部；滾筒裝置，設置在清洗裝置與加熱裝置上方，其包括多個并排設置的滾筒，滾筒之間彼此間隔，相鄰滾筒間的間距等于待鍍膜基材的厚度；噴液裝置，設置在滾筒裝置上方并固定于承載裝置上，用于為所述待鍍膜基材提供待鍍液；以及驅動裝置，與基座連接，用于驅動該基座相對該收容槽旋轉以及上下運動，使得該待鍍膜基材在經過該清洗裝置清洗之后，于滾筒之間穿過滾筒裝置進而由該滾筒以及噴液裝置進行鍍膜，并在完成鍍膜之后由該加熱裝置烘干。

相對于現有技術，本發明的滾筒式鍍膜設備在大氣壓環境下對待鍍膜基材進行鍍膜，鍍膜過程無需抽真空及破真空，使得鍍膜連續，提高了鍍膜效率且能夠保證鍍膜品質。

附圖說明

圖1是本發明較佳實施方式提供的滾筒式鍍膜設備的立體分解圖。

圖2是圖1的滾筒式鍍膜設備另一視角的立體分解圖。

圖3是圖1的滾筒式鍍膜設備的組裝圖。

圖4是圖3的滾筒式鍍膜設備的一種使用狀態示意圖。

圖5是圖3的滾筒式鍍膜設備的另一種使用狀態示意圖。

圖6是圖3的滾筒式鍍膜設備的又一種使用狀態示意圖。

主要元件符號說明

滾筒式鍍膜設備??????????????100

承載裝置????????????????????10

收容槽??????????????????????11

底面????????????????????????13

側面????????????????????????15

頂面????????????????????????17

臺階????????????????????????19

基座????????????????????????20

承載板??????????????????????21

插槽????????????????????????23

清洗裝置????????????????????30

壓縮空氣氣槍????????????????31

加熱裝置????????????????????40

控制電路板??????????????????41

電加熱元件??????????????????43

滾筒裝置????????????????????50

支架????????????????????????51

滾筒????????????????????????53

滾動馬達??????????????????55

噴液裝置??????????????????60

噴液端????????????????????61

吸液端????????????????????63

驅動裝置??????????????????70

旋轉馬達??????????????????71

升降馬達??????????????????73

升降軸????????????????????75

控制器????????????????????77

通孔??????????????????????115

第一開口??????????????????111

第二開口??????????????????113