[發(fā)明專利]一種圖形化石墨烯的制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010215355.4
• 申請日: 2010-07-01
• 公開（公告）號: CN101872120A
• 公開（公告）日: 2010-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葉堉;戴倫;代宇;秦國剛
• 申請（專利權(quán)）人: 北京大學(xué)
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 北京萬象新悅知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11360
• 代理人: 蘇愛華

1.一種圖形化石墨烯的制備方法，包括如下步驟：

A)將光刻膠或PMMA旋涂在器件襯底上；

B)在需要石墨烯的位置上制出相應(yīng)的圖形窗口，窗口之外的表面被光刻膠或PMMA覆蓋；

C)將相互黏附的石墨烯和PMMA層轉(zhuǎn)移到器件襯底上，并使石墨烯與窗口處的襯底部分緊密接觸，且進(jìn)行熱處理；

D)將上述襯底浸泡在丙酮溶液中，使光刻膠或PMMA，以及光刻膠或PMMA上的石墨烯和PMMA層剝離，即可在器件襯底上獲得圖形化的石墨烯。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，步驟C)中，相互黏附的石墨烯和PMMA層的制備步驟包括：

1)在Ni或Cu催化薄膜上制備石墨烯；

2)旋涂一層PMMA；

3)將帶有PMMA的Ni或Cu催化薄膜浸泡在腐蝕溶液中，腐蝕掉Ni或Cu薄膜，使石墨烯和PMMA層漂浮在溶液中，從而得到相互黏附的石墨烯和PMMA層。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，步驟B)中，通過紫外光刻或電子束光刻、顯影、定影等工藝在器件襯底上開出相應(yīng)的圖形窗口。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，步驟C)中，石墨烯和PMMA轉(zhuǎn)移到器件襯底后的熱處理，溫度為60-120℃，時(shí)間為30分鐘。

5.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述步驟1)中采用化學(xué)氣相沉積方法制備石墨烯。

6.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述步驟3)中腐蝕液為FeCl₃或(NH₄)₂S₂O₈。