[發明專利]曝光設備和器件制造法

無效

• 申請號: 201010214662.0
• 申請日: 2003-12-08
• 公開（公告）號: CN101872135A
• 公開（公告）日: 2010-10-27
• 發明（設計）人: 蛭川茂;馬入伸貴;田中一政
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 張建濤;車文

1.一種曝光設備，它用能量束照射圖案并且經投影光學系統把所述圖案轉印到基片上，所述曝光設備包括：

一個基片臺，基片臺上安裝著所述基片，所述基片臺在保持所述基片的二維平面內移動；

一個干涉儀，它測量所述基片臺的位置；

一個供應機構，它把液體供應到所述投影光學系統和所述基片臺上的所述基片之間的空間；

一個回收機構，它回收所述液體；和

一個空氣調節機構，它在所述投影光學系統和所述基片之間的所述液體的周圍執行空氣調節。

2.如權利要求1所述的曝光設備，其中

所述空氣調節機構包括一個抽吸流體的抽吸機構。

3.如權利要求2所述的曝光設備，其中

所述抽吸機構還執行回收所述回收機構不能回收的所述液體的功能。

4.如權利要求1所述的曝光設備，其中

所述空氣調節機構對所述液體周圍進行局部的空氣調節。

5.如權利要求1所述的曝光設備，其中

所述投影光學系統包括多個光學元件，其中位置最靠近所述基片的一個光學元件在不包括用來曝光的部分的部分中形成了一個孔，和

利用所述孔執行供應所述液體、回收所述液體和回收氣泡這些操作中的至少一種操作。

6.如權利要求1所述的曝光設備，所述曝光設備進一步包括：

一個控制單元，當所述基片臺保持靜止時，控制單元停止所述供應機構執行的液體供應操作和所述回收機構執行的液體回收操作。

7.如權利要求1所述的曝光設備，其中

所述供應機構從所述基片移動方向的前側把液體供應到所述投影光學系統和所述基片臺上的基片之間的空間。

8.如權利要求1所述的曝光設備，其中

所述供應機構從所述基片移動方向的后側把液體供應到所述投影光學系統和所述基片臺上的基片之間的空間。

9.如權利要求1所述的曝光設備，所述曝光設備進一步包括：

一個驅動系統，在掃描曝光方法中，它相對于所述能量束在預定的掃描方向上驅動所述基片臺從而把所述圖案轉印到所述基片上。

10.如權利要求9所述的曝光設備，其中

所述供應機構具有多個供應孔，所述供應孔彼此分開地布置在與所述掃描方向垂直的非掃描方向上，并且根據所述基片上經受曝光的劃分區域的尺寸從所述多個供應孔中選擇出至少一個供應孔，所述供應機構經所述選擇出的至少一個供應孔供應所述液體。

11.如權利要求1所述的曝光設備，所述曝光設備進一步包括：

至少一個氣泡回收機構，它在所述投影光學系統沿所述基片移動方向的后側回收液體中的氣泡。

12.如權利要求1所述的曝光設備，所述曝光設備進一步包括：

一個調節單元，它根據在所述投影光學系統和所述基片之間的所述液體的溫度信息的實際測量值和預測值中的至少一個值調節曝光條件。

13.一種曝光設備，它用能量束照射圖案并且經投影光學系統把所述圖案轉印到基片上，所述曝光設備包括：

一個基片臺，基片臺上安裝著所述基片，所述基片臺在保持所述基片的二維平面內移動；

一個供應機構，它把液體供應到所述投影光學系統和所述基片臺上的所述基片之間的空間；和

一個回收機構，它回收所述液體，其中

所述投影光學系統包括多個光學元件，其中位置最靠近所述基片的一個光學元件在不包括用來曝光的部分的部分中形成了一個孔，和

利用所述孔執行供應所述液體、回收所述液體和回收氣泡這些操作中的至少一種操作。

14.如權利要求13所述的曝光設備，所述曝光設備進一步包括：

一個控制單元，當所述基片臺保持靜止時，控制單元停止所述供應機構執行的液體供應操作和所述回收機構執行的液體回收操作。

15.如權利要求13所述的曝光設備，其中

所述供應機構從所述基片移動方向的前側把液體供應到所述投影光學系統和所述基片臺上的基片之間的空間。

16.如權利要求13所述的曝光設備，其中

所述供應機構從所述基片移動方向的后側把液體供應到所述投影光學系統和所述基片臺上的基片之間的空間。