[發明專利]向產品、特別是玻璃施加持久加工標記的方法

有效

• 申請號: 201010212874.5
• 申請日: 2010-06-12
• 公開（公告）號: CN101927627A
• 公開（公告）日: 2010-12-29
• 發明（設計）人: 阿恩·庫普斯;斯文·雷特;伯恩德·邦德;奧拉夫·波斯特爾
• 申請（專利權）人: 德莎歐洲公司
• 主分類號: B41M5/382
• 分類號: B41M5/382
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 吳培善

1.使用激光向產品，特別是玻璃，施加持久加工標記的方法。

2.權利要求1的方法，其特征在于，

使用所述激光以激光照射具有至少局部存在的顏料層的激光轉印片，該顏料層包括至少一種激光敏感顏料。

3.權利要求1或2的方法，其特征在于，

使用所述激光以激光照射具有至少一個載體層的激光轉印片，其中在所述載體層的底面上至少局部存在第一粘合劑層；

在攜帶第一粘合劑層的激光轉印片載體層的那面上有至少兩個顏料層：優選一個為至少局部施加的第一顏料層，一個為至少局部施加的第二顏料層，第一顏料層包括至少一種玻璃熔劑顏料，第二顏料層包括至少一種激光敏感顏料。

4.權利要求1或2的方法，其特征在于，

使用所述激光以激光照射具有至少一個載體層的激光轉印片，其中在所述載體層的底面上至少局部存在第一粘合劑層；

在攜帶第一粘合劑層的激光轉印片載體層的那面上有包含至少局部存在的激光敏感顏料的至少兩個顏料層，并且在所述顏料層中的激光敏感顏料的濃度不同。

5.權利要求1或2的方法，其特征在于，

使用所述激光以激光照射基于聚合物基體的顏料層，其中所述聚合物基體由于激光照射而主要發生粉碎，所述顏料層包含至少一種鈦給體，還有在激光照射下提供自由碳的碳給體，所述顏料層任選用粘合劑，特別是壓敏粘合劑，局部或全部涂覆。

6.權利要求5的方法，其特征在于，

所述聚合物基體在不使用能量照射下熔融的塑性材料和/或不使用玻璃料的情況下形成。

7.權利要求5或6的方法，其特征在于，提供二氧化鈦作為鈦給體。

8.前述權利要求5-7至少一項的方法，其特征在于，

提供炭黑和/或所述聚合物基體作為碳給體，所述自由碳通過在輻射作用下照射炭黑形成和/或在輻射作用下由分解、蒸發、氧化、解聚和/或熱解的聚合物基體產生，優選其中僅提供炭黑和/或聚合物基體作為碳給體。

9.前述權利要求5-8至少一項的方法，其特征在于，

通過能量照射產生的燒蝕從所述顏料層中除去的粉碎物質的數均粒度為約0.5μm～約2.0μm。

10.前述權利要求5-9至少一項的方法，其特征在于，

所述顏料層由于局部施用的鈍化層而失活，在標記操作期間在顏料層與基材接觸的那面上進行所述鈍化。

11.前述權利要求5-10至少一項的方法，其特征在于，

通過壓按使所述顏料層與欲劃刻的基材直接接觸，

用激光輻射照射該顏料層，結果聚合物基體粉碎并形成自由碳，以及

作為照射的結果，在所述基材上形成記號。

12.前述權利要求至少一項的方法，其特征在于，

在不使用玻璃料和/或不使用在能量照射下熔融的塑性材料的情況下獲得所述加工標記。

13.前述權利要求至少一項的方法，其特征在于，

對透明基材，特別是玻璃進行標記，透過基材進行照射，在所述基材遠離輻射源的那面上形成標記。

14.前述權利要求至少一項的方法，其特征在于，

施加所述加工標記，該加工標記為表面結構形式的衍射對照標記，撓曲結構形式、衍射結構形式、顯影形式等的計算機生成的全息圖或干涉全息圖，并且可以作為光活性層用專門的讀取設備讀出。

15.前述權利要求至少一項的方法，其特征在于，

所述加工標記除了位置特征還包含有關進一步加工的獨立信息的元件-特定數據集。

16.前述權利要求至少一項的方法，其特征在于，

施加所述標記，其中位置精度為±0.1μm，高度為0.1～5μm。

17.玻璃制品，特別是片材、容器或管，其使用根據前述權利要求中至少一項的顏料層標記。

18.權利要求17的玻璃制品，其特征在于，在其表面上含有碳化鈦。