[發(fā)明專(zhuān)利]二氧化鈦多孔薄膜的制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010206483.2
• 申請(qǐng)日: 2010-06-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101886249A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-11-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳韜;方燕翎;王琦;丁靚
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 浙江大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35;C23C14/08
• 代理公司: 杭州求是專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 33200
• 代理人: 韓介梅

1.二氧化鈦多孔薄膜的制備方法，包括以下步驟：

1)超聲波條件下用有機(jī)溶劑和去離子水清洗基材，干燥；

2)磁控濺射反應(yīng)室真空度抽到至少10^-3Pa，加熱基材，使基材溫度為20～250℃，通入反應(yīng)氣體，以金屬鋅為靶材，惰性氣體為工作氣，在0.5～2.0Pa壓強(qiáng)下，濺射生長(zhǎng)氧化鋅薄膜；然后以金屬鈦為靶材，在氧化鋅薄膜上濺射生長(zhǎng)氧化鈦薄膜，得到鋅氧化物和鈦氧化物復(fù)合膜層；

3)將鋅氧化物和鈦氧化物復(fù)合膜層在0.001～1mol/L酸液中浸泡0.5～30分鐘取出，干燥，得到二氧化鈦多孔膜。

2.二氧化鈦多孔薄膜的制備方法，包括以下步驟：

1)超聲波條件下用有機(jī)溶劑和去離子水清洗基材，干燥；

2)磁控濺射反應(yīng)室真空度抽到至少10^-3Pa，加熱基材，使基材溫度為20～250℃，通入反應(yīng)氣體，以金屬鋅和金屬鈦為靶材，惰性氣體為工作氣，在0.5～2.0Pa壓強(qiáng)下，在基材上濺射生長(zhǎng)鋅氧化物和鈦氧化物，鋅氧化物和鈦氧化物互相摻雜，得到鋅氧化物和鈦氧化物復(fù)合膜層；

3)將鋅氧化物和鈦氧化物復(fù)合膜層在0.001～1mol/L酸液中浸泡0.5～30分鐘取出，干燥，得到二氧化鈦多孔膜。

3.二氧化鈦多孔薄膜的制備方法，包括以下步驟：

1)超聲波條件下用有機(jī)溶劑和去離子水清洗基材，干燥；

2)磁控濺射反應(yīng)室真空度抽到至少10^-3Pa，加熱基材，使基材溫度為20～250℃，通入反應(yīng)氣體，以金屬鋅和金屬鈦為靶材，惰性氣體為工作氣，在0.5～2.0Pa壓強(qiáng)下，在基材上濺射生長(zhǎng)鋅氧化物和鈦氧化物，鋅氧化物和鈦氧化物互相摻雜，得到鋅氧化物和鈦氧化物復(fù)合膜層；然后以金屬鈦為靶材，在鋅氧化物和鈦氧化物復(fù)合膜層上濺射生長(zhǎng)氧化鈦薄膜；

3)將步驟2)制得的復(fù)合膜層在0.001～1mol/L酸液中浸泡0.5～30分鐘取出，干燥，得到二氧化鈦多孔膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的二氧化鈦多孔薄膜的制備方法，其特征在于：步驟1)中所說(shuō)的有機(jī)溶劑為丙酮、氯仿和乙醇中的至少一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的二氧化鈦多孔薄膜的制備方法，其特征在于所說(shuō)的基材是FTO導(dǎo)電玻璃、ITO導(dǎo)電玻璃、陶瓷，聚乙烯、聚苯乙烯或無(wú)紡布。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的二氧化鈦多孔薄膜的制備方法，其特征在于所說(shuō)的反應(yīng)氣體是純氧或空氣。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的二氧化鈦多孔薄膜的制備方法，其特征在于所說(shuō)的惰性氣體為氬氣、氮?dú)饣驓鍤夂偷獨(dú)獾幕旌蠚怏w。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的二氧化鈦多孔薄膜的制備方法，其特征在于所說(shuō)的酸液為鹽酸、硫酸、醋酸或硝酸。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的二氧化鈦多孔薄膜的制備方法，其特征在于將制得的二氧化鈦多孔薄膜在80～600℃條件下退火處理1小時(shí)以下。