[發明專利]用于硅基器件的凸微觀部件有效
| 申請號： | 201010206225.4 | 申請日： | 2001-08-10 |
| 公開（公告）號： | CN101867858A | 公開（公告）日： | 2010-10-20 |
| 發明（設計）人： | 邁克爾·佩德森;彼得·V·勒佩特;李承復 | 申請（專利權）人： | 諾利斯電子公司 |
| 主分類號： | H04R19/00 | 分類號： | H04R19/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 孫紀泉 |
| 地址： | 美國伊*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 器件 微觀 部件 | ||
1.一種用于硅基器件的凸微觀部件(110)，凸微觀部件(110)包括：
通常呈平面的薄膜(112)；
支持薄膜(112)的側壁(114)；
所述凸微觀部件(110)上的側壁(114)在其基底(118)處連接到硅基片(116)上；
其中側壁(114)呈肋狀并且形成多個脊和凹槽。
2.如權利要求1所述的凸微觀部件，其特征在于，所述的側壁的橫截面在所述基片表面的平面上為波紋狀。
3.如權利要求1所述的凸微觀部件，其特征在于，肋狀物具有通常呈弧形的截面。
4.如權利要求1所述的凸微觀部件，其特征在于，肋狀物具有通常呈三角形的截面。
5.如權利要求1所述的凸微觀部件，其特征在于，肋狀物具有通常呈長方形的截面。
6.如權利要求1所述的凸微觀部件，其特征在于，側壁包括多個肋條。
7.如權利要求6所述的凸微觀部件，其特征在于，所述肋條環繞側壁間隔相等的距離。
8.如權利要求1所述的凸微觀部件，其特征在于：
所述平面薄膜具有第一厚度和周邊；
所述側壁具有第二厚度；
所述側壁在距離硅基片所述第二厚度的所述周邊之上支持所述平面薄膜；
其中側壁呈肋狀并且形成多個脊和凹槽。
9.如權利要求8所述的凸微觀部件，其特征在于，所述第一厚度與所述平面薄膜的橫向長度相比要小。
10.如權利要求8所述的凸微觀部件，其特征在于，所述第二厚度與其所述第一厚度近似相等。
11.如權利要求8所述的凸微觀部件，其特征在于，所述周邊與所述基片之間的距離與所述第二厚度相比要大。
12.如權利要求8所述的凸微觀部件，其特征在于，肋狀物緊隨周邊的周期性路徑相對于所述平面薄膜的中心向內或者向外。
13.如權利要求12所述的凸微觀部件，其特征在于，所述路徑呈弧形。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于諾利斯電子公司，未經諾利斯電子公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010206225.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
