[發明專利]金屬附著物的除去方法

有效

• 申請號: 201010205234.1
• 申請日: 2007-08-10
• 公開（公告）號: CN101882566A
• 公開（公告）日: 2010-11-10
• 發明（設計）人: 三好秀典;石川健治;立石秀樹;林雅一;西川伸之
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種金屬附著物的除去方法，其特征在于：

該方法用于除去附著于處理容器的內部的金屬附著物，該處理容器在內部具有對形成有金屬層的被處理基板進行處理的處理空間，

控制所述處理容器內部的溫度和所述處理空間的壓力以使所述金屬附著物升華。

2.如權利要求1所述的金屬附著物的除去方法，其特征在于：

利用氧化性氣體使所述金屬附著物氧化升華。

3.如權利要求2所述的金屬附著物的除去方法，其特征在于：

所述氧化性氣體選自O₂、O₃、N₂O和CO₂。

4.如權利要求1所述的金屬附著物的除去方法，其特征在于：

選擇所述處理容器內部的溫度，使所述金屬附著物的蒸氣壓力比所述處理空間的壓力高。

5.如權利要求1所述的金屬附著物的除去方法，其特征在于：

對于形成有所述金屬層的被處理基板的處理，利用含有有機化合物的處理氣體除去形成于所述金屬層的表面的氧化物。

6.如權利要求5所述的金屬附著物的除去方法，其特征在于：

所述有機化合物選自羧酸、羧酸酐、酯、醇、醛以及酮。