[發明專利]高活性高耐受甲醛降解菌及其應用

有效

• 申請號: 201010204536.7
• 申請日: 2010-06-21
• 公開（公告）號: CN101993837A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發明（設計）人: 鐘衛鴻;金晶;邱樂泉;吳石金;鐘莉;徐云;鄭重;陳建孟
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: C12N1/20
• 分類號: C12N1/20;C02F3/34;B01D53/84;B01D53/72;A62D3/02;C12R1/40;C02F101/36;A62D101/28
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司 33201
• 代理人: 黃美娟;冷紅梅

1.一株高活性高耐受甲醛降解菌——惡臭假單胞菌(Pseudomonas?putida)xyz-zjut，保藏于中國典型培養物保藏中心，地址：湖北省武漢市珞珈山武漢大學，430072，保藏日期2010年5月23日，保藏號為CCTCCNo：M?2010125。

2.如權利要求1所述的惡臭假單胞菌xyz-zjut在微生物降解甲醛中的應用。

3.如權利要求3所述的應用，其特征在于所述降解在30℃、pH8.0條件下進行。

4.如權利要求3所述的應用，其特征在于所述降解在組成如下的培養基中進行：蛋白胨1.2g/L，KH₂PO₄4g/L，K₂HPO₄3g/L，MgSO₄·7H₂O?0.2g/L，微量元素母液0.1mL/L，溶劑為水；所述微量元素母液組成如下：H₃BO₃6g/L，CoCl₂·6H₂O?4g/L，ZnSO₄·7H₂O?2g/L，MnCl₂·4H₂O?0.6g/L，Na₂MoO₄·7H₂O?0.6g/L，NiCl₂·6H₂O?0.4g/L，CuCl₂·2H₂O?0.2g/L，溶劑為水。