[發明專利]混合渲染裝置和方法

無效

• 申請號: 201010200612.7
• 申請日: 2010-06-08
• 公開（公告）號: CN101923727A
• 公開（公告）日: 2010-12-22
• 發明（設計）人: 安民修;高永仁;河仁友;安廷桓
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: G06T15/00
• 分類號: G06T15/00
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 韓明星;羅延紅

1.一種混合渲染裝置，包括：

確定單元，選擇用于執行3D渲染的渲染方案；

第一渲染單元，根據第一渲染方案通過表現直接光來執行3D渲染；

第二渲染單元，根據第二渲染方案通過表現間接光和陰影中的至少一種來執行3D渲染；

第三渲染單元，根據第三渲染方案通過表現反射光、折射光、衍射光中的至少一種來執行3D渲染。

2.如權利要求1所述的裝置，其中，確定單元基于用于渲染的目標對象的材料性質來選擇渲染方案。

3.如權利要求1所述的裝置，其中，確定單元基于硬件的性能來選擇渲染方案。

4.如權利要求1所述的裝置，其中，第一渲染方案是通過將矢量數據轉換為像素圖案圖像以執行渲染的柵格化渲染。

5.如權利要求1所述的裝置，其中，第二渲染方案是基于光源、對象之間的光、漫射的光中的至少一種以執行渲染的輻射度渲染。

6.如權利要求1所述的裝置，其中，第三渲染方案是通過跟蹤從對象的表面反射的光線的路徑以執行渲染的光線跟蹤渲染。

7.如權利要求1所述的裝置，其中，確定單元包括：

渲染方案選擇單元，從第一渲染方案、第二渲染方案、第三渲染方案中選擇至少一種渲染方案；

第一參數調節單元，調節用于輻射度渲染的面片或采樣點的尺寸、面片或采樣點的數量；

第二參數調節單元，調節用于光線跟蹤的掩模的產生、反射反彈的次數、折射反彈的次數。

8.如權利要求7所述的裝置，其中，第二參數調節單元包括：

掩模產生調節單元，確定用于光線跟蹤的掩模的像素值；

反射次數調節單元，調節反射反彈的次數和折射反彈的次數中的至少一種。

9.如權利要求8所述的裝置，其中，掩模產生調節單元將用于產生光線的區域的像素值設置為第一設置值，并將不產生光線的區域的像素值設置為第二設置值。

10.一種混合渲染方法，包括如下步驟：

選擇用于執行3D渲染的渲染方案；

根據第一渲染方案來表現直接光；

根據第二渲染方案來表現間接光和柔和的陰影中的至少一種；

根據第三渲染方案來表現反射光、折射光、衍射光中的至少一種。

11.如權利要求10所述的方法，其中，選擇步驟基于用于渲染的目標對象的材料性質來選擇渲染方案。

12.如權利要求10所述的方法，其中，選擇步驟基于硬件的性能來選擇渲染方案。

13.如權利要求10所述的方法，其中，第一渲染方案是通過將矢量數據轉換為像素圖案圖像以執行渲染的柵格化渲染。

14.如權利要求10所述的方法，其中，第二渲染方案是基于光源、對象之間的光、漫射的光中的至少一種以執行渲染的輻射度渲染。

15.如權利要求10所述的方法，其中，第三渲染方案是通過跟蹤從對象的表面反射的光線的路徑以執行渲染的光線跟蹤渲染。

16.如權利要求10所述的方法，其中，選擇步驟包括如下步驟：

從第一渲染方案、第二渲染方案、第三渲染方案中選擇至少一種渲染方案；

調節用于輻射度渲染的面片或采樣點的尺寸、面片或采樣點的數量；

調節用于光線跟蹤的掩模的產生、反射反彈的次數、折射反彈的次數。

17.如權利要求16所述的方法，其中，調節掩模的產生、反射反彈的次數、折射反彈的次數的步驟包括如下步驟：

通過確定用于光線跟蹤的掩模的像素值來產生掩模；

調節反射反彈的次數和折射反彈的次數中的至少一種。

18.如權利要求17所述的方法，其中，產生掩模的步驟包括：

將用于產生光線的區域的像素值設置為第一設置值；

將不產生光線的區域的像素值設置為第二設置值。