[發明專利]碲隔汞晶片溶劑溶液的自動化動態清洗裝置及方法

有效

• 申請號: 201010198858.5
• 申請日: 2010-06-11
• 公開（公告）號: CN101905222A
• 公開（公告）日: 2010-12-08
• 發明（設計）人: 朱建妹;王正官
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海技術物理研究所
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 郭英

技術領域

本發明涉及光電器件制造工藝技術，具體指一種碲隔汞晶片溶劑溶液的自動化動態清洗裝置及方法。

背景技術

碲隔汞紅外探測器在研制過程中步驟繁多，其工藝涉及到表面處理、介質膜、光刻、P-N成結、腐蝕、金屬電極、互連等一系列工藝，而且每道工藝都要進行溶劑溶液清洗過程。碲隔汞是一種脆性半導體材料，對其晶片的拿取和溶劑溶液清洗的方式及其重要。傳統的操作方法用金屬鑷子夾取在溶劑溶液中通過超聲波震蕩方法或者手動晃蕩方法來清洗。

隨著碲隔汞紅外探測器研制的發展，特別是表面處理工藝，芯片的溶劑溶液清洗已經成為非常關鍵的工藝技術之一。由于傳統的工藝發生了很多工藝上問題，采用溶劑溶液清洗的動態模式改善表面質量尤其重要，在某些較為敏感的工藝中，還需要專門的化學溶劑來滿足要求。因此，應用一項符合碲隔汞溶劑溶液清洗的動態裝置對表面處理工藝要求是十分重要的。

對于碲隔汞晶片溶劑溶液清洗，困難在于超聲波震蕩方法容易使晶片碎裂；手動晃蕩方法由于是人為操作，不具有穩定性和重復性，晃動次數有限，難以對晶片表面沾物進行徹底清洗，不能保證每次清洗的一致性；并且這兩種方法對碲隔汞晶片的成品率都受到很大的影響。

發明內容

基于上述已有技術存在的問題，本發明的目的是要提出晶片在溶劑溶液中動態作用下的一種清洗裝置，通過該裝置來解決已有清洗中存在的問題。

本發明的碲隔汞晶片溶劑溶液清洗自動化動態裝置其特點在于：

1.晶片松舒自由地放置于聚四氟乙烯多孔花藍里。

2.通過聚四氟乙烯多孔花藍，晶片在有機溶液或無機溶液里做上下運動。

3.使用的有機或無機溶液又處于恒溫水槽中恒定溫度。

4.聚四氟乙烯多孔花藍通過機械結構連接于電機形成自動化運動狀態，清洗過程達到有效的一致性和重復性。

本發明的裝置，包括：滑槽1，驅動板2，平衡連接桿3，滑塊4，石英燒杯5，有機或無機清洗溶液6，固定架7，恒溫水浴8，恒溫水槽9，撥盤10，撥桿11，力臂桿12，直流電機13，直流調速電源14，導軌15，主桿架16，花藍手炳17，HgCdTe晶片18，聚四氟乙烯多孔花藍19。

所說的聚四氟乙烯多孔花藍螺接在花藍手炳的下端101；為使花藍手炳的卸取方便，花藍手炳的上端與力臂桿的一端呈90°的彈性銜接201，這樣，聚四氟乙烯多孔花藍通過花藍手炳垂吊在力臂桿上。為了承載聚四氟乙烯多孔花藍里被清洗HgCdTe晶片的數量多或少，可以根據需要更換力臂桿的長短。力臂桿的另一端螺接301在滑塊上，滑塊帶動力臂桿在導軌上垂直上下移動，為了使滑塊平穩移動兩端固定在平衡連接桿上401。平衡連接桿的另端與驅動板固定銜接501。

所說的主桿架是一個弓字形結構，下端通過固定架緊套在恒溫水槽上601，整個裝置不會因為偏重而傾斜。上端固定直流電機。

啟動直流電機撥盤轉動，帶動撥桿作圓周運動，由于撥桿被套在驅動板的滑槽內，所以帶動驅動板作上下運動。所說的滑槽，滑槽的長短可根據聚四氟乙烯多孔花藍上下移動時被清洗晶片不露出石英燒杯液面的原則設計而成，滑槽越長，上下移動的距離越大，反之，距離變小。

本發明通過以上構造連接形成一個上下移動的動態模式，以至于達到清洗目的。也就形成了碲隔汞晶片溶劑溶液清洗自動化動態裝置。

本發明的碲隔汞晶片溶劑溶液清洗的動態裝置的優點是：

1.由于碲隔汞晶片豎立于花藍中間，有機或無機溶液通過多孔花藍流暢的沖浪，達到全面清洗的目的。

2.由于電機頻率的一致，可以保證工藝的可靠性和可重復性。

3.由于碲隔汞晶片有大有小，聚四氟乙烯多孔花藍可隨意更換大小。

4.由于聚四氟乙烯多孔花藍的可換性，力臂桿的長短也隨之可換。

附圖說明

圖1為本發明的碲隔汞晶片溶劑溶液清洗自動化動態裝置正面結構示意圖。

圖2為本發明的碲隔汞晶片溶劑溶液清洗自動化動態裝置側面結構示意圖。

圖3為本發明的碲隔汞晶片溶劑溶液清洗自動化動態裝置實物攝取圖。

具體實施方法

有機或無機清洗溶液6灌入石英燒杯5，石英燒杯置于恒溫水槽9水浴8中。將碲隔汞晶片18豎立于聚四氟乙烯多孔花藍19中浸入灌有溶劑的石英燒杯內，接通直流調速電源14啟動直流電機13帶動撥盤10撥桿11在滑槽1內作圓周運動，滑塊在導軌15內上下移動，聚四氟乙烯多孔花藍通過花藍手炳17、力臂桿12、滑塊4、滑槽1等部件連接上下提拉運動，達到動態清洗的目的。

本發明的碲隔汞晶片溶劑溶液清洗自動化動態裝置，已經成功用于碲隔汞紅外探測器研制工藝中，其實物攝取圖見圖3。