[發明專利]測定元件有效
| 申請號: | 201010198725.8 | 申請日: | 2006-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN101839847A | 公開(公告)日: | 2010-09-22 |
| 發明(設計)人: | 福永淳;野口榮治;中南貴裕 | 申請(專利權)人: | 松下電器產業株式會社 |
| 主分類號: | G01N21/15 | 分類號: | G01N21/15 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 段承恩;楊光軍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測定 元件 | ||
本申請是基于申請號200680044790.7、申請日2006年11月27日、發明名稱“測定元件”的中國專利申請提出的分案申請。
技術領域
本發明涉及用于進行試樣中所含的被檢測物質的光學測定的測定元件。
背景技術
一直以來,作為用于進行試樣的光學測定的測定元件(cell),為了防止設置在測定元件的側面的光學窗部污損,提出了一種方形玻璃元件,其具有光學窗部有凹面的構造(例如專利文獻1)。
專利文獻1:日本特開平10-273331號公報
發明內容
但是,上述專利文獻1所記載的元件的光學窗部一直露出到外部,因此存在這樣的問題,即,不能夠很好地保護該光學窗部不受污垢、損傷的侵害,由于在光學窗部上附著污垢或受到損傷而產生誤測定。
于是,本發明目的在于,解決上述這樣的現有問題,提供通過保護光學窗部而能夠防止由污染、損傷所導致的誤測定的測定元件。
為了解決上述問題,本發明的測定元件,包括:用于保持試樣的試樣保持部;用于向所述試樣保持部的內部供給試樣的開口部;用于使光入射于所述試樣保持部的內部、并使光射出至所述試樣保持部的外部的光學窗部;沿所述試樣保持部的外周可移動地設置、用于保護所述光學窗部的保護罩;和用于將所述保護罩保持在覆蓋所述光學窗部的位置上的第一保護罩保持部。
本發明的測定元件,包括測定元件本體和保護罩,所述測定元件本體具有:試樣保持部、開口部、光學窗部以及第一保護罩保持部;所述試樣保持部用于保持試樣;所述開口部用于向所述試樣保持部的內部供給試樣;所述光學窗部用于使光入射于所述試樣保持部的內部、并使光射出至所述試樣保持部的外部;所述第一保護罩保持部用于將所述保護罩保持在覆蓋所述光學窗部并且露出所述開口部的位置上;所述保護罩用于保護所述光學窗部,其被設置成可沿所述試樣保持部的外周進行移動。
根據這樣的構成,能夠由保護罩保護光學窗部,并且在測定時使該保護罩移動至露出上述光學窗部的位置,由此能夠可靠地防止由光學窗部的污損所導致的誤測定。
根據本發明的測定元件,因為能夠在測定時以外使光學窗部不露出地對其進行保護,所以能夠更加可靠地防止由光學窗部的污損所導致的誤測定。
本發明的測定裝置具有上述測定元件,包括:測定元件安裝部,其設有用于插入測定元件的裝置開口部,以使所述測定元件可裝卸地安裝于所述測定裝置上;測定結果顯示器,用于顯示測定結果。
附圖說明
圖1是表示本發明的測定元件的實施方式1的構造的立體圖。
圖2是圖1所示的測定元件1的A-A線部分的剖視圖。
圖3是表示圖1所示的測定元件1的使保護罩101移動的狀態的立體圖。
圖4是表示本發明的測定元件1的實施方式2的構造的立體圖。
圖5是表示圖4所示的測定元件1的使保護罩101移動的狀態的立體圖。
圖6是表示本發明的測定元件1的實施方式3的構造的立體圖。
圖7是表示圖6所示的測定元件1的使保護罩101移動的狀態的立體圖。
圖8是表示圖7所示的測定元件1的使保護罩101進一步移動的狀態的立體圖。
圖9是本發明的實施方式4所涉及的測定元件的構造的立體圖。
圖10是圖9所示的測定元件1的主視圖。
圖11是圖10所示的測定元件1的B-B線部分的剖視圖。
圖12是實施方式4所涉及的測定元件1的分解立體圖。
圖13是表示使用了實施方式4所涉及的測定元件1的測定裝置2的立體圖。
圖14是表示圖13所示的測定裝置2的剖視圖。
圖15是表示圖13和圖14所示的測定裝置2的構造的框圖。
圖16是用于說明使用本發明的測定元件1和測定裝置2來測定試樣中的被檢測物質的工序中的一個工序的示意圖。
圖17是用于說明使用本發明的測定元件1和測定裝置2來測定試樣中的被檢測物質的工序中的其他工序的示意圖。
圖18是用于說明使用本發明的測定元件1和測定裝置2來測定試樣中的被檢測物質的工序中的另外的其他工序的示意圖。
圖19是用于說明使用本發明的測定元件1和測定裝置2來測定試樣中的被檢測物質的工序中的另外的其他工序的示意圖。
圖20是用于說明使用本發明的測定元件1和測定裝置2來測定試樣中的被檢測物質的工序中的另外的其他工序的示意圖。
圖21是用于說明使用本發明的測定元件1和測定裝置2來測定試樣中的被檢測物質的工序中的另外的其他工序的示意圖。
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