[發(fā)明專(zhuān)利]電解液真空沸騰式高速電沉積方法及裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010198012.1
• 申請(qǐng)日: 2010-06-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101871108A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 明平美;姜無(wú)疾;鄭建新;李英杰;呂印定;王艷麗;李松昭
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 河南理工大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): C25D5/00
• 分類(lèi)號(hào): C25D5/00;C25D19/00;C25D21/12
• 代理公司: 鄭州聯(lián)科專(zhuān)利事務(wù)所(普通合伙) 41104
• 代理人: 王聚才

1.一種電解液真空沸騰式高速電沉積方法，其特征在于，包括如下步驟：

a.將陽(yáng)極和陰極固定于電沉積槽中，向電沉積槽中加入適量電解液，然后將電沉積槽密封，開(kāi)啟電解液循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)和電解液狀態(tài)觀測(cè)系統(tǒng)，啟動(dòng)電解液溫控系統(tǒng)和陰極面溫控系統(tǒng)并分別控制槽內(nèi)電解液體液溫度為25～40℃，陰極表面溫度為55～70℃；

b.啟動(dòng)電沉積槽真空度控制系統(tǒng)，對(duì)電沉積槽進(jìn)行抽氣，并調(diào)節(jié)槽內(nèi)真空度，使陰極面表層的電解液沸騰；

c.開(kāi)啟電源進(jìn)行電沉積，直至鍍層達(dá)到所要求厚度，停止沉積。

2.如權(quán)利要求1所述電解液真空沸騰式高速電沉積方法，其特征在于：所述陽(yáng)極與陰極上下相對(duì)水平設(shè)置，兩者相距20～100mm，陽(yáng)極與陰極面積比不小于2∶1。

3.如權(quán)利要求1所述電解液真空沸騰式高速電沉積方法，其特征在于：所述電解液的液面高出陽(yáng)極上表面不小于20mm。

4.如權(quán)利要求1所述電解液真空沸騰式高速電沉積方法，其特征在于：所述槽內(nèi)真空度為3～12kPa。

5.如權(quán)利要求1所述電解液真空沸騰式高速電沉積方法，其特征在于，包括如下步驟：

a.將陽(yáng)極和陰極固定于電沉積槽中，向電沉積槽中加入適量電解液，然后將電沉積槽密封，開(kāi)啟電解液循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)和電解液狀態(tài)觀測(cè)系統(tǒng)，啟動(dòng)電解液溫控系統(tǒng)和陰極面溫控系統(tǒng)并分別控制槽內(nèi)電解液體液溫度為25～40℃，陰極表面溫度為55～70℃；其中，所述陽(yáng)極與陰極上下相對(duì)水平設(shè)置，兩者相距20～100mm，陽(yáng)極與陰極面積比大于2∶1；所述電解液的液面高出陽(yáng)極上表面20～30mm；

b.啟動(dòng)電沉積槽真空度控制系統(tǒng)，對(duì)電沉積槽進(jìn)行抽氣，并調(diào)節(jié)槽內(nèi)真空度，使陰極面表層的電解液沸騰，其中，所述槽內(nèi)真空度為3～12kPa；

c.開(kāi)啟電源進(jìn)行電沉積，直至鍍層達(dá)到所要求厚度，停止沉積。

6.實(shí)施權(quán)利要求1至5任一所述電沉積方法的裝置，包括電沉積系統(tǒng)、電解液溫控系統(tǒng)、電解液循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)和陰極面溫控系統(tǒng)，其特征在于：還含有電沉積槽真空度控制系統(tǒng)和電解液狀態(tài)觀測(cè)系統(tǒng)。

7.如權(quán)利要求6所述的電沉積裝置，其特征在于，所述電沉積槽真空度控制系統(tǒng)包括真空調(diào)節(jié)閥、真空表、空氣干燥器和真空泵；所述真空調(diào)節(jié)閥、真空表安裝于電沉積槽頂部，所述真空泵與空氣干燥器相連，空氣干燥器經(jīng)抽氣管路接頭與電沉積槽連接。

8.如權(quán)利要求6所述的電沉積裝置，其特征在于，所述電解液狀態(tài)觀測(cè)系統(tǒng)包括微型攝像頭和圖像數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)；所述微型攝像頭位于陰極表面的側(cè)上方，圖像數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)與微型攝像頭相連。