[發明專利]位置偵測的裝置及方法

有效

• 申請號: 201010197781.X
• 申請日: 2010-04-16
• 公開（公告）號: CN102023781A
• 公開（公告）日: 2011-04-20
• 發明（設計）人: 葉尚泰;陳家銘;何順隆
• 申請（專利權）人: 禾瑞亞科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/047
• 分類號: G06F3/047
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

1.一種校正位置誤差的裝置，其特征在于包括：

一感應器，包括多數條導電條相疊構成的多數個相疊區，其中相疊于任一相疊區的一對被壓觸導電條因電性接觸形成一接觸點時構成一被壓觸相疊區；

一驅動器，分別提供一高電位與一低電位；

一偵測器，偵側至少一導電條之一訊號；

一選擇器，操作性耦合該些導電條于該驅動器與該偵測器；以及

一控制器，藉由控制該驅動器、該偵測器與該選擇器進行至少以下作業：

偵測每一導電條的一端的一未壓觸電位；

偵測每一被壓觸導電條在該端的一被壓觸電位；以及

依據該未壓觸電位、該被壓觸電位判斷每一條被壓觸導電條上的該接觸點的一誤差比例。

2.如權利要求1所述的校正位置誤差的裝置，其特征在于該未壓觸電位與該被壓觸電位的偵測包括：

輪流選擇該些導電條之一成為一被驅動導電條；

電性耦合一延伸電阻與該被驅動導電條以構成一延伸導電條；

在該延伸導電條未壓觸時提供該高電位與該低電位于該延伸導電條以偵測該延伸電阻與該被驅動導電條間的電位作為該未壓觸電位；以及

在該延伸導電條被壓觸時提供該高電位與該低電位于該延伸導電條以偵測該延伸電阻與該被驅動導電條間的電位作為該被壓觸電位。

3.如權利要求2所述的校正位置誤差的裝置，其特征在于該誤差比例為其中VH、VL、Vd與Vu分別為該高電位、該低電位、該被壓觸電位與該未壓觸電位。

4.如權利要求1所述的校正位置誤差的裝置，其特征在于該控制器更包括藉由控制該驅動器、該偵測器與該選擇器進行至少以下作業：

偵測每一接觸點的一位置，當該被壓觸導電條存在一跨同層導電條的接觸阻抗時，該未校正位置存在因該跨同層導電條的接觸阻抗造成的一誤差；以及

依據該未校正位置、該偏差比例校正該誤差。

5.如權利要求4所述的校正位置誤差的裝置，其特征在于該接觸點位置的偵測包括：

輪流選擇該對被壓觸導電條之一與另一分別作為一被驅動導電條與一被偵測導電條；

在提供一高電位與一低電位于該被驅動導電條兩端時偵測該被偵測導電條的電位作為一偵測電位；以及

依據該對被壓觸導電條的該些偵測電位判斷出該位置。

6.如權利要求5所述的校正位置誤差的裝置，其特征在于該接觸點位置的偵測包括：

電性耦合一延伸電阻與該被驅動導電條以構成一延伸導電條；

在該延伸導電條未壓觸時提供該高電位與該低電位于該延伸導電條的兩端以偵測該延伸電阻與該被驅動導電條間的電位作為該未壓觸電位；以及

在該延伸導電條被壓觸時提供該高電位與該低電位于該延伸導電條以偵測該延伸電阻與該被驅動導電條間的電位作為該被壓觸電位。

7.如權利要求6所述的校正位置誤差的裝置，其特征在于該對導電條之一上的該接觸點位于該跨同層導電條的接觸阻抗與被提供高電位的該端間時，該被壓觸導電條之一上的該位置經校正該誤差后為

其中VP、VH、VL、Vd與Vu分別為該偵測電位、該高電位、該低電位、該被壓觸電位與該未壓觸電位。

8.如權利要求6所述的校正位置誤差的裝置，其特征在于該對導電條之一上的該接觸點位于該跨同層導電條的接觸阻抗與被提供低電位的該端間時，該被壓觸導電條之一上的該位置經校正該誤差后為

其中VP、VH、VL、Vd與Vu分別為該偵測電位、該高電位、該低電位、該被壓觸電位與該未壓觸電位。

9.一種校正位置誤差的方法，其特征在于包括：

提供多數條導電條相疊構成的多數個相疊區，其中相疊于任一相疊區的一對被壓觸導電條在電性接觸形成一接觸點時構成一被壓觸相疊區；

偵測每一導電條的一端在未壓觸時的一未壓觸電位；

偵測每一被壓觸導電條在該端的一被壓觸電位；以及

依據該未壓觸電位、該被壓觸電位判斷每一條被壓觸導電條上的該接觸點的一誤差比例。