[發明專利]驅動裝置

無效

• 申請號: 201010195580.6
• 申請日: 2010-06-09
• 公開（公告）號: CN102280951A
• 公開（公告）日: 2011-12-14
• 發明（設計）人: 李昌明
• 申請（專利權）人: 士燿國際股份有限公司
• 主分類號: H02K1/14
• 分類號: H02K1/14;H02K1/22;H02K1/17
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139
• 代理人: 孫皓晨

技術領域

本發明涉及一種驅動裝置，特別涉及一種使用于驅動儀表指針轉動的驅動裝置。

背景技術

驅動儀表指針轉動的驅動裝置，目前是以定子帶動轉子的方式所組成，然而目前定子大多利用導磁件上設置線圈，并由導磁件兩端延伸，使其末端磁接于轉子，以帶動轉子轉動，然而，此種作法為具有下列缺失：

(一)為了縮小驅動裝置的體積，其線圈以并排狀設置，而導磁件兩端以彎曲延伸方式磁接于轉子，因此，線圈于組裝至導磁件時，受到導磁件彎曲的導磁件所限制而不易組裝。

(二)由于導磁件末端以延伸方式磁接于轉子，使線圈所產生的磁力傳導至導磁件末端時，磁力的散漏非常高，因此導磁件必須使用高導磁系數的材質所制成，才可使導磁件末端產生的磁力足以帶動轉子轉動，而高導磁系數的材料價格非常高，因此會使成本大為上升，若以增加線圈繞設圈數，來加強導磁件末端的磁力，則又會使體積增大。

是以，要如何解決上述公知的問題與缺失，即為從事此相關業者所亟欲研發的課題。

發明內容

本發明的主要目的在于，利用定子產生的磁力直接磁接于轉子，以避免過大的磁損產生，以可降低驅動裝置的成本，并可縮小驅動裝置整體體積。

為達上述目的，本發明一種驅動裝置，用于驅動儀表指針轉動，該驅動裝置設置有定子以及轉子，其中：該定子設置有以導磁性材料所制成的導磁件，導磁件為環形封閉體，且導磁件內側緣朝向導磁件中心處間隔延伸有多個主磁部，并于各主磁部上套設有線圈組；該轉子環狀排列有多個磁區，而相鄰磁區的磁極相反，且轉子位于各主磁部的末端處，轉子周緣與各主磁部間隔產生氣隙，而各線圈組的一端正對于轉子周緣。

本發明的有益效果在于：主磁部由導磁件內緣朝向導磁件中心處延伸而成，且線圈組套設于主磁部上，因此主磁部受到線圈組電流感應出磁力時，磁力會直接穿過氣隙磁接轉子的磁區，所以主磁部的磁力在磁接磁區時，產生的磁損相當的低，進而可在成本考量下，將導磁件使用導磁系數較低的材質制成，以降低成本，且線圈組的線圈繞數也可相對的減少，以縮小驅動裝置整體體積。

附圖說明

圖1為本發明的立體外觀圖；

圖2為本發明的上視圖；

圖3為本發明局部構件的立體分解圖。

附圖標記說明：1、定子；11、導磁件；111、片體；12、主磁部；13、線圈組；131、座體；132、線圈；14、副磁部；15、缺槽；2、轉子；21、磁區；3、氣隙。

具體實施方式

請參閱圖1至圖3所示，由圖中可清楚看出，本發明的驅動裝置設置有定子1以及轉子2，其中：

該定子1設置有以導磁性材料所制成的導磁件11，導磁性材料可為硅鋼片，導磁件11為一環形封閉并由多個片體111層迭而成，且導磁件11內側緣朝向導磁件11中心處間隔延伸有多個主磁部12，而導磁件11于兩主磁部12之間一側設置有形成高阻磁段的缺槽15，另一側內側緣朝向導磁件11中心處間隔延伸有副磁部14，而主磁部12上套設有線圈組13；線圈組13設置有套設于主磁部12外緣的座體131，且座體131表面繞設有線圈132。

該轉子2環狀排列有多個磁區21，而相鄰磁區21的磁極相反，且轉子2位于各主磁部12的末端處，轉子2周緣與各主磁部12間隔產生氣隙3，而各線圈組13的一端正對于轉子2周緣。

由上所述，當線圈組13的線圈132通電時，各主磁部12會感應產生磁力，而主磁部12末端磁力會穿過氣隙3磁接轉子2，當轉子2的磁區21受到這個磁場產生轉距，即可利用轉距推動轉子2依磁場的方向旋轉。

再者，該兩主磁部12形成120度夾角，而磁區21數量為2N個，且N可為2、4、5或7，也就是磁區21數量為4、8、10或14個。

是以，本發明定子1的設計可改善現有技術的缺失，并可增進驅動裝置的功效，其關鍵技術在于，主磁部12由導磁件11內緣朝向導磁件11中心處延伸而成，且線圈組13套設于主磁部12上，因此主磁部12受到線圈組13電流感應出磁力時，磁力會直接穿過氣隙3磁接轉子2的磁區21，所以主磁部12的磁力在磁接磁區21時，產生的磁損相當的低，進而可在成本考量下，將導磁件11使用導磁系數較低的材質制成，以降低成本，且線圈組13的線圈132繞數也可相對的減少，以縮小驅動裝置整體體積。

唯上所述，僅為本發明的較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施的范圍，故舉凡數值的變更或等效組件的置換，或依本發明申請專利范圍所作的均等變化與修飾，都應仍屬本發明專利涵蓋的范疇。