[發明專利]光盤裝置和光盤再現方法

有效

• 申請號: 201010195078.5
• 申請日: 2010-05-31
• 公開（公告）號: CN101996647A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發明（設計）人: 鹽澤學
• 申請（專利權）人: 日立樂金資料儲存股份有限公司
• 主分類號: G11B7/09
• 分類號: G11B7/09;G11B7/13
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

技術領域

本發明涉及使用激光對光盤進行再現的光盤裝置。

背景技術

作為背景技術，例如，有專利文獻1中揭示的技術。在專利文獻1中揭示了“當引入跟蹤伺服系統時，選擇基于推挽法的跟蹤誤差信號”，“在引入伺服系統后，根據基于3光束法的跟蹤誤差信號進行跟蹤控制”的方式。

[專利文獻1]日本專利特開平8-30989號

發明內容

當再現光盤時，作為使光點追隨光盤上的軌道的方式，正在用DPP(Differential?Push-Pull：微分推挽)方式和3光束方式等。DPP方式是用衍射光柵將激光分割成主光束和副光束，生成由主光束產生的主推挽信號和由副光束產生的副推挽信號的方式。通過在副推挽信號上乘上對透鏡位移的靈敏度進行補償的系數，將取得與主推挽信號之差的信號用作跟蹤誤差信號，能夠對由透鏡位移引起的偏離進行補償，使光點追隨軌道中心。3光束方式是用衍射光柵將激光分割成主光束和副光束，將由副光束生成的信號的強度變化作為跟蹤誤差信號的方式。

在DPP方式和3光束方式中，為了記錄再現使用主光束，副光束只用于跟蹤伺服系統。因為激光的功率控制通常對分割光束前的激光進行，所以存在著當主光束和副光束的光量比與設計值不同時，記錄再現性能惡化了那樣的課題。即，當主光束的光量高時，存在著使記錄在光盤中的信號惡化的可能性，當主光束的光量低時發生由信號振幅低下引起的再現性能惡化。這種與設計值的偏離是由衍射光柵的特性偏差等引起的。

本發明的目的是提供能夠補償主光束和副光束的光量比偏差的光盤裝置或光盤再現方法。

作為一個例子，本發明的光盤裝置，從光盤再現信息，其特征在于：具有，發出激光的光源；驅動上述光源的光源驅動部；將上述激光分割成多個光束的光學元件；控制上述光學元件的光學元件控制部；將上述激光聚光于上述光盤的部件；和檢測在上述光盤上反射的上述激光的檢測部；切換上述光學元件的光束分割功能的有效和無效而進行上述光盤的再現，并進行激光的出射功率的調整。

另外，本發明的光盤再現方法，使用將激光分割成多個光束的光學元件，進行光盤的再現，其特征在于：切換上述光學元件的光束分割功能的有效和無效而進行上述光盤的再現，并進行激光的出射功率的調整

如果根據本發明，則能夠補償主光束和副光束的光量比偏差，得到按照設計值的再現性能。

附圖說明

圖1(a)是表示按照本發明的光盤裝置的一個實施例的方框構成圖。

圖1(b)是按照本發明的光盤裝置的探測器的構成圖。

圖2(a)是記錄型光盤上的光點的示意圖的例子。

圖2(b)是再現專用光盤上的光點的示意圖的例子。

圖3是在將光盤插入到按照本發明的光盤裝置中后到再現開始的操作程序圖的例子。

圖4是表示按照本發明的光盤裝置的，在開始再現后溫度發生變化時的工作的操作程序圖的例子。

符號說明

101……微機，102……激光驅動器，103……激光二極管，104……分束器，105……功率監視器，106……衍射光柵，107……衍射光柵驅動器，108……物鏡，109……光盤，110……偏振分束器，111……探測器，112……波形均衡器，113……信號處理器，114……主探測器，115……副探測器，201……溝槽，202……岸面，203……主光點，204……副光束，205……凹坑

具體實施方式

下面，我們用附圖說明本發明的實施例。

此外，以后“出射功率”表示從物鏡出射的激光的功率。另外，“發光功率”表示激光二極管發出的激光的功率。

[實施例1]

圖1(a)是表示根據本發明的光盤裝置的一個實施例的方框構成圖。此外，省略了關于與本實施例沒有直接關聯的塊的記載。