[發明專利]恒模序列的離散傅立葉變換的快速計算方法和裝置有效
| 申請號: | 201010193826.6 | 申請日: | 2010-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN102271108A | 公開(公告)日: | 2011-12-07 |
| 發明(設計)人: | 謝一寧;任天民 | 申請(專利權)人: | 中興通訊股份有限公司 |
| 主分類號: | H04L27/26 | 分類號: | H04L27/26;H04W74/08 |
| 代理公司: | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人: | 胡海國 |
| 地址: | 518057 廣東省深圳市南山*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 序列 離散 傅立葉 變換 快速 計算方法 裝置 | ||
1.一種恒模序列的離散傅立葉變換的快速計算方法,其特征在于,包括:
根據恒模序列的根序列號獲取第一參數值;
根據所獲取的第一參數值、恒模序列長度和循環移位值獲得第一序列的初始值;
根據所述第一序列的初始值和所述第一參數值進行第一序列的迭代計算;
根據所述第一序列的迭代計算后的值和預設的第二序列的初始值對第二序列的進行迭代計算;
根據所述第二序列的迭代計算后的值獲得離散傅立葉變換。
2.如權利要求1所述的恒模序列的離散傅立葉變換的快速計算方法,其特征在于,所述根據恒模序列的根序列號獲取第一參數值的步驟包括:
以所述恒模序列的根序列號作為索引值查找第一數據表得到所述第一參數值,其中,所述第一數據表存儲為Δ=u-1modNZC,0≤u≤NZC-1,Δ取值范圍為[0,NZC-1]中的整數。
3.如權利要求1所述的恒模序列的離散傅立葉變換的快速計算方法,其特征在于,所述根據所獲取的第一參數值、恒模序列長度和循環移位值獲得第一序列的初始值的步驟包括:
若所述獲取的第一參數值為奇數,則通過(τ+(Δ+1)/2)modNZC獲得所述第一序列的初始值,其中,τ表示循環移位值,Δ表示第一參數值,NZC表示恒模序列長度;
若所述獲取的第一參數值不為奇數,則通過(τ+(Δ+1+NZC)/2)modNZC獲得所述第一序列的初始值。
4.如權利要求1所述的恒模序列的離散傅立葉變換的快速計算方法,其特征在于,所述根據所述第一序列的初始值和所述第一參數值進行第一序列的迭代計算的步驟包括:
據所述第一序列的初始值和所述第一參數值進行第一序列的第一次迭代計算;
之后,根據第k-1次迭代計算后的值和第一參數進行第k次迭代計算。
5.如權利要求4所述的恒模序列的離散傅立葉變換的快速計算方法,其特征在于,所述根據所述第一序列的初始值和所述第一參數值進行第一序列的第一次迭代計算的步驟包括:
通過(B(0)+Δ)modNZC來計算所述第一序列的第一次迭代計算,其中,B(0)表示所述第一序列的初始值。
6.如權利要求4所述的恒模序列的離散傅立葉變換的快速計算方法,其特征在于,所述根據第k-1次迭代計算后的值和第一參數進行第k次迭代計算的步驟包括:
通過(B(k-1)+Δ)modNZC計算第k次迭代計算,其中,B(k-1)表示第k-1次迭代計算后的值,其中k≥1為一個正整數,小于等于NZC-1。
7.如權利要求4所述的恒模序列的離散傅立葉變換的快速計算方法,其特征在于,所述根據所述第一序列的迭代計算后的值和預設的第二序列的初始值對第二序列的進行迭代計算的步驟包括:
根據所述第一序列的初始值和預設的第二序列的初始值進行第二序列的第一次迭代計算;
之后,根據第二序列的第k-1次迭代計算后值和第一序列的第k-1次迭代計算后的值進行第二序列的第k次迭代計算。
8.如權利要求7所述的恒模序列的離散傅立葉變換的快速計算方法,其特征在于,所述根據所述第一序列的初始值和預設的第二序列的初始值進行第二序列的第一次迭代計算的步驟包括:
通過(Y(0)+B(0))modNZC計算所述第二序列的第一次迭代計算,其中,Y(0)表示所述預設的第二序列的初始值。
9.如權利要求7所述的恒模序列的離散傅立葉變換的快速計算方法,其特征在于,所述根據第二序列的第k-1次迭代計算后值和第一序列的第k-1次迭代計算后的值進行第二序列的第k次迭代計算的步驟包括:
通過(Y(k-1)+B(k-1))modNZC計算第二序列的第k次迭代計算,Y(k-1)表示所述第二序列的第k-1次迭代計算后值,其中k≥1為一個正整數,小于等于NZC-1。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中興通訊股份有限公司,未經中興通訊股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010193826.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:化學氣相沉積用原料及使用了該原料的含硅薄膜形成方法
- 下一篇:連續退火爐





