[發(fā)明專利]陣列基板及其制造方法、液晶面板和液晶顯示器

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010193300.8
• 申請(qǐng)日: 2010-05-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102262324A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-11-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 呂敬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1362
• 分類號(hào): G02F1/1362;G02F1/1335;H01L27/02;H01L21/77
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 劉芳

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)，尤其涉及一種陣列基板及其制造方法、液晶面板和液晶顯示器。

背景技術(shù)

液晶顯示器(Liquid?Crystal?Display，以下簡(jiǎn)稱：LCD)具有體積小、功耗小、無(wú)輻射等特點(diǎn)，在屏幕尺寸和顯示質(zhì)量方面都取得了很大進(jìn)步，并且用戶對(duì)大尺寸液晶面板的需求越來(lái)越大，各個(gè)LCD制造廠商都在積極建設(shè)高世代生產(chǎn)線，以生產(chǎn)出大尺寸的液晶面板，而對(duì)新建一條新的生產(chǎn)線，其投資巨大。

現(xiàn)有技術(shù)中還有另一種生產(chǎn)大尺寸液晶面板的方法，即將基板設(shè)計(jì)若干個(gè)組成區(qū)域，通過(guò)在基板的不同組成區(qū)域依次進(jìn)行曝光，例如陣列基板的制造過(guò)程中，首先在第一區(qū)域形成柵線，然后再在第二區(qū)域形成柵線，依次按照上述的方法在襯底基板上形成完整圖案，即通過(guò)拼接的方式生產(chǎn)大尺寸的陣列基板。另外在彩膜基板的制造過(guò)程中，對(duì)于黑矩陣的制作工藝，也可以是先在第一區(qū)域形成黑矩陣，然后再在第二區(qū)域形成黑矩陣，即通過(guò)拼接的方式生產(chǎn)大尺寸的彩膜基板。

上述的通過(guò)拼接的方法生產(chǎn)液晶面板的技術(shù)，需要進(jìn)行一次或多次的重復(fù)曝光，而由于對(duì)位精度問(wèn)題，在拼接區(qū)域容易出現(xiàn)同一條金屬走線與其相鄰的像素電極之間的間距差異大的缺陷，如圖1所示，其中陣列基板上兩次曝光的拼接區(qū)域，對(duì)于柵線，其左側(cè)部分1為一次曝光形成的圖案，而右側(cè)部分2為另一次曝光形成的圖案，由圖1可以看出，上述兩次曝光形成的柵線，左側(cè)部分和右側(cè)部分與其相鄰的像素電極之間的距離有著較大差異，其中的左側(cè)部分的柵線與其相鄰的像素電極之間的距離為d1和d2，右側(cè)部分的柵線與其相鄰的像素電極之間的距離為d3和d4，且上述的d1＜d3，而d2＞d4，另外對(duì)于彩膜基板的黑矩陣而言，也存在上述問(wèn)題，由于上述的對(duì)位差異，容易導(dǎo)致液晶面板的顯示不良。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種陣列基板及其制造方法、液晶面板和液晶顯示器，以及彩膜基板及其制造方法，能夠避免在拼接時(shí)，因兩次曝光工藝的層間對(duì)位差異而造成顯示不良。

本發(fā)明提供一種陣列基板，包括襯底基板，以及以拼接方式形成在所述襯底基板上的像素電極、信號(hào)線和絕緣層，在拼接區(qū)域，至少一條信號(hào)線為分段式結(jié)構(gòu)，所述分段式結(jié)構(gòu)的信號(hào)線上各個(gè)折線段由兩次曝光工藝制成，且相鄰的兩個(gè)折線段由不同的曝光工藝制成。

本發(fā)明還提供一種彩膜基板，包括襯底基板，以及形成在所述襯底基板上的黑矩陣和像素樹(shù)脂，在拼接區(qū)域，所述黑矩陣為分段式結(jié)構(gòu)，所述分段式結(jié)構(gòu)的黑矩陣的各個(gè)折線段由兩次曝光工藝制成，且相鄰的兩個(gè)折線段由不同的曝光工藝制成。

本發(fā)明還提供一種液晶面板，包括對(duì)盒設(shè)置的陣列基板和彩膜基板，所述陣列基板和彩膜基板之間填充有液晶層，所述陣列基板采用上述的陣列基板和/或所述彩膜基板采用上述的彩膜基板。

本發(fā)明還提供一種液晶顯示器，包括外框架、液晶面板、所述液晶面板采用上述的液晶面板。

本發(fā)明還提供一種陣列基板的制造方法，包括以拼接方式在所述襯底基板上形成像素電極、信號(hào)線和絕緣層的步驟，在拼接區(qū)域形成信號(hào)線的步驟包括：

在襯底基板上信號(hào)線層材料；

通過(guò)對(duì)第一次曝光工藝進(jìn)行控制以形成兩個(gè)以上間隔設(shè)置的第一信號(hào)線折線段；

通過(guò)對(duì)第二次曝光工藝進(jìn)行控制以形成兩個(gè)以上間隔設(shè)置的第二信號(hào)線折線段，所述第一信號(hào)線折線段和第二信號(hào)線折線段構(gòu)成具有分段式結(jié)構(gòu)的信號(hào)線。

本發(fā)明還提供一種彩膜基板的制造方法，包括在襯底基板上形成在形成黑矩陣、像素樹(shù)脂的步驟，所述在彩膜基板上形成黑矩陣的步驟包括：

在襯底基板上沉積黑矩陣材料；

通過(guò)對(duì)第一次曝光工藝進(jìn)行控制以形成兩個(gè)以上間隔設(shè)置的第一黑矩陣折線段；

通過(guò)對(duì)第二次曝光工藝進(jìn)行控制以形成兩個(gè)以上間隔設(shè)置的第二黑矩陣折線段，所述第一黑矩陣折線段和第二黑矩陣折線段構(gòu)成具有分段式結(jié)構(gòu)的黑矩陣。

本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板及其制造方法、液晶面板和液晶顯示器，彩膜基板及其制造方法，其中上述陣列基板的信號(hào)線以及彩膜基板的黑矩陣，在拼接區(qū)域?yàn)榉侄问浇Y(jié)構(gòu)，且分段式結(jié)構(gòu)的信號(hào)線上各個(gè)折線段由兩次曝光工藝制成，且相鄰的兩個(gè)折線段由不同的曝光工藝制成，上述陣列基板上的信號(hào)線設(shè)計(jì)為補(bǔ)償式的設(shè)計(jì)方案，采用上述的技術(shù)方案制造的陣列基板，即使在拼接時(shí)存在層間對(duì)位偏差，也能夠避免因兩次曝光工藝的層間對(duì)位差異而造成顯示不良。

附圖說(shuō)明

圖1現(xiàn)有技術(shù)中陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2本發(fā)明實(shí)施例中陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖一；

圖3本發(fā)明實(shí)施例中陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖二。