[發(fā)明專利]鍍膜傘架無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010192237.6 | 申請日: | 2010-06-04 |
| 公開(公告)號: | CN102268652A | 公開(公告)日: | 2011-12-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 裴紹凱 | 申請(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50;C23C14/54 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鍍膜 傘架 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種鍍膜傘架,尤其涉及一種由平面載盤構(gòu)成的可控制鍍膜元件膜層厚度的鍍膜傘架。
背景技術(shù)
光學(xué)薄膜一般采用蒸鍍法(Evaporation?Deposition)、離子助鍍法(Ion?Assisteddeposition,IAD)或離子濺鍍法(Ion?Beam?Sputtering?Deposition,IBSD)進(jìn)行鍍制。在膜層鍍制過程中,通常使用鍍膜傘架來承載鍍膜元件,鍍膜元件放置于鍍膜傘架上,待鍍表面朝向設(shè)置于鍍膜傘架下方的靶材,通過蒸發(fā)或離子轟擊等方式將靶材材料沖至鍍膜傘架,并附著于待鍍表面形成鍍膜膜層。
請參閱圖7,為傳統(tǒng)鍍膜傘架10的示意圖,傳統(tǒng)鍍膜傘架10為弧面結(jié)構(gòu),其上開設(shè)有多個(gè)承載孔12,傳統(tǒng)鍍膜傘架10可以繞其中心旋轉(zhuǎn)。鍍膜時(shí),鍍膜元件(圖未示)容置于承載孔12,待鍍表面朝向設(shè)置于鍍膜傘架下方的靶材(圖未示)。但是,這種傳統(tǒng)鍍膜傘架一般體積及重量都較大,使用過程中需占據(jù)較大的空間,不易于收放保存。而且,傳統(tǒng)鍍膜傘架具有的弧度又使得鍍膜傘架的中心距離靶材較遠(yuǎn),易造成放置于鍍膜傘架中心位置的鍍膜元件鍍膜膜層厚度不夠,影響同一批次鍍膜元件鍍膜膜層的均勻性;再者,傳統(tǒng)鍍膜傘架上承載的鍍膜元件距離靶材的距離一般都是較為固定的,不易控制鍍膜元件鍍膜膜層的厚度。此外,對于需要在不同表面鍍膜的鍍膜元件來說,采用傳統(tǒng)的鍍膜傘架通常需要人工翻轉(zhuǎn)鍍膜元件,由此,易使鍍膜元件受到污染,影響鍍膜制品的良率。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,有必要提供一種易于實(shí)現(xiàn)的、可有效解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題的鍍膜傘架。
一種鍍膜傘架包括一個(gè)中心支撐桿,一設(shè)置于中心支撐桿上的中心載盤,若干個(gè)圍繞并固定于所述中心支撐桿的外圍支撐桿,及若干個(gè)分別設(shè)置于所述若干個(gè)外圍支撐桿上的外圍載盤。所述中心支撐桿可以繞其長度方向的中心軸旋轉(zhuǎn)。所述中心載盤與所述若干個(gè)外圍載盤均至少由一個(gè)第一載盤及一個(gè)第二載盤組成,所述中心載盤的第一載盤與第二載盤通過一個(gè)中心連接軸相連接,且所述中心載盤的第一載盤與第二載盤可以繞所述中心連接軸相對于所述中心支撐桿旋轉(zhuǎn)而分別實(shí)現(xiàn)翻面。所述若干個(gè)外圍載盤的第一載盤與第二載盤通過一個(gè)外圍連接軸相連接,且所述外圍載盤的第一載盤與第二載盤可以繞所述外圍連接軸相對于對應(yīng)的外圍支撐桿旋轉(zhuǎn)而分別實(shí)現(xiàn)翻面。所述外圍支撐桿進(jìn)一步沿其長度方向開設(shè)有一個(gè)貫穿所述外圍支撐桿外側(cè)面的貫通槽,所述外圍連接軸位于與其對應(yīng)的所述貫通槽內(nèi),對應(yīng)的所述外圍載盤的第一載盤與第二載盤分別位于所述貫通槽的兩側(cè),所述外圍連接軸可以沿所述貫通槽滑動(dòng),使所述外圍載盤沿與其對應(yīng)的外圍支撐桿上升或下降。
相對于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明提供的鍍膜傘架具有如下優(yōu)點(diǎn):其一,鍍膜傘架為組合結(jié)構(gòu),區(qū)別于非傳統(tǒng)傘狀結(jié)構(gòu),便于收放保存,占據(jù)的空間較小,可以節(jié)省放置空間。其二,本發(fā)明的鍍膜傘架中的載盤除了可以整體旋轉(zhuǎn)以外,還可以旋轉(zhuǎn)變換鍍膜角度,可以有效地改善鍍膜膜層的均勻性、致密性及應(yīng)力分布。其三,鍍膜傘架中可升降的外圍載盤,使得設(shè)置于其上的鍍膜元件在鍍膜加工時(shí),可調(diào)節(jié)與靶材的距離,從而可以控制鍍膜元件鍍膜膜層的厚度。其四,本發(fā)明的鍍膜傘架整體結(jié)構(gòu)簡單,便于安裝與拆卸,無需設(shè)計(jì)具有弧度的復(fù)雜曲面,有利于降低設(shè)計(jì)成本。其五,對于需要在不同表面鍍膜的鍍膜元件來說,采用本發(fā)明的鍍膜傘架便于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻轉(zhuǎn)鍍膜元件,可避免鍍膜元件受到污染,提高鍍膜制品的良率。
附圖說明
圖1是本發(fā)明一實(shí)施例提供的鍍膜傘架的示意圖,所述鍍膜傘架包括中心載盤、外圍載盤及升降裝置。
圖2是圖1所示的鍍膜傘架的局部放大示意圖。
圖3是圖1所示的升降裝置與外圍載盤的示意圖。
圖4是圖1所示的鍍膜傘架中的外圍載盤調(diào)整至某一角度與某一高度時(shí)的狀態(tài)示意圖。
圖5是圖1所示的鍍膜傘架中的外圍載盤調(diào)整至另一角度與另一高度時(shí)的狀態(tài)示意圖。
圖6是圖1所示的鍍膜傘架中的中心載盤及外圍載盤翻面后的示意圖。
圖7是傳統(tǒng)鍍膜傘架的示意圖。
主要元件符號說明
傳統(tǒng)鍍膜傘架??????????10
承載孔????????????????12、53
支撐架????????????????30
中心支撐桿????????????31
外圍支撐桿????????????32
橫桿??????????????????34
驅(qū)動(dòng)器????????????????36
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





