[發明專利]基于匹配特征點隨機生成特征線的偽造印章識別方法

有效

• 申請號: 201010191308.0
• 申請日: 2010-06-04
• 公開（公告）號: CN101894260A
• 公開（公告）日: 2010-11-24
• 發明（設計）人: 郎海濤;雷蘭一菲
• 申請（專利權）人: 北京化工大學
• 主分類號: G06K9/20
• 分類號: G06K9/20;G06K9/64
• 代理公司: 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203
• 代理人: 樓艮基

1.一種基于匹配特征點隨機生成特征線的偽造印章識別方法，其特征在于包含下列步驟：

1.1：離線階段步驟：建立參考印章圖像特征點數據庫；

1.1.1：通過成像裝置獲取真實印章的印文圖像作為參考印文圖像，賦予每個參考印文圖像一個固定的ID，該ID與特定的真實印章相對應；

1.1.2：提取參考印文圖像的特征點，構建包含每個特征點的位置信息及描述符信息的數據庫；

1.2：在線識別階段步驟：

1.2.1：通過成像裝置獲取包含待驗印章印文的蓋印文件圖像；

1.2.2：待驗印章印文圖像預處理及待驗印章有效印文圖像提取；

1.2.3：待驗印章圖像特征點提取步驟；

提取待驗印章印文圖像的特征點，構建包含每個特征點的位置信息及描述符信息的數據庫；

1.2.4：待驗印章與參考印章特征點匹配步驟；

特征點有特征向量及特征矩陣等兩種形式的描述符，對于前者采用歐式距離評價方法進行特征點匹配；若歐式距離最小的和次最小的相比，不大于后者的A％，認為與歐式距離最小的相對應的兩個特征向量為匹配特征向量，相應的參考印章圖像特征點與待驗印章圖像特征點為匹配特征點；

對于采用特征矩陣作為特征點特征描述符的，由于此類特征矩陣一般為正定矩陣，采用正定矩陣距離評價方法進行特征點匹配；若正定矩陣距離最小的和次最小的相比，不大于后者的A％，認為與正定矩陣距離最小的相對應的兩個特征向量為匹配特征向量，相應的參考印章圖像特征點與待驗印章圖像特征點為匹配特征點；

待驗印章與參考印章特征點匹配完成后，將獲得參考圖像特征點[P₁?P₂...P_n]與待驗圖像特征點[P₁′P₂′...P_n′]的對應關系，其中n表示匹配特征點的數量；上式表示參考圖像特征點P1與待驗圖像特征點P2’對應，P2與P2’對應，依此類推；

1.2.5：基于匹配特征點隨機生成可識別的待驗印章與參考印章圖像特征線步驟；

隨機選擇m對匹配特征點，如[P₁?P₂...P_m]和[P₁′P₂′...P_m′]，分別在參考印章圖像與待驗印章圖像中生成最多對可識別特征線，如P₁P₂與P₁′P₂′，P₁P₃與P₁′P₃′，…，P_m-1P_m與P_m-1′P_m′；

1.2.6：待驗印章與參考印章圖像特征線一致性比較步驟；

分別提取待驗印章與參考印章圖像對應的特征線所包含的圖像信息，進行一致性比較，根據匹配特征線提取的圖像灰度信息，將灰度信息向量化，并對向量歸一化后，通過歐式距離評價匹配特征線包含圖像信息的一致性；認為歐氏距離小于B的特征線是一致特征線，否則為不一致特征線，記錄一致特征線的數量，計算一致性比例系數C；

1.2.7：待驗印章真偽評價步驟；

同一印章在不同情況下蓋印得到的印文，同時具備特征點數量及分布一致性和圖像信息一致性兩個特點。

2.根據權利要求1所述的基于匹配特征點隨機生成特征線的偽造印章識別方法，其特征在于：所述的圖像特征點為圖像的局部灰度、梯度極值點，并通過周圍圖像像素信息予以描述，描述符為數值向量或者數值矩陣；參考印章與待驗印章特征點數據庫包含每個印章圖像所有特征點的描述符的位置信息及描述符向量或者描述符矩陣信息。

3.根據權利要求1所述的基于匹配特征點隨機生成特征線的偽造印章識別方法，其特征在于：待驗印章印文圖像預處理步驟，采用但不限于圖像增強、圖像濾波等數字圖像處理方法。

4.根據權利要求1所述的基于匹配特征點隨機生成特征線的偽造印章識別方法，其特征在于：所述的待驗印章有效印文圖像提取步驟，采用基于RGB或者HSV兩種顏色模型的有色印文提取方法。