[發(fā)明專利]圖像形成設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010189561.2 | 申請(qǐng)日: | 2010-05-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101900957A | 公開(公告)日: | 2010-12-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 山中隆幸;鳥山幸一;福島功太郎;松本雅則 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 夏普株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03G5/06 | 分類號(hào): | G03G5/06;G03G15/04;G03G15/045 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人: | 谷惠敏;穆德駿 |
| 地址: | 日本大阪*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像 形成 設(shè)備 | ||
1.一種圖像形成設(shè)備,包括:
感光體;
充電裝置,所述充電裝置用于對(duì)所述感光體進(jìn)行充電;
曝光裝置,所述曝光裝置用于利用光來照射所述感光體的表面,以形成靜電潛像;
顯影裝置,所述顯影裝置用于對(duì)形成的靜電潛像進(jìn)行顯影;
轉(zhuǎn)印裝置,所述轉(zhuǎn)印裝置用于將顯影的圖像轉(zhuǎn)印到紙張上;以及
放電裝置,所述放電裝置用于利用光來照射所述感光體的表面,以消除電荷,其中
所述感光體包括在380nm至420nm的波長(zhǎng)區(qū)域和600nm至850nm的波長(zhǎng)區(qū)域中具有吸收帶的氧鈦酞菁作為電荷產(chǎn)生材料,所述曝光裝置利用具有380nm至420nm波長(zhǎng)的光來照射所述感光體的表面以形成所述靜電潛像,以及所述放電裝置使用具有600nm至850nm波長(zhǎng)的光來照射所述感光體的表面以消除電荷。
2.權(quán)利要求1中所述的圖像形成設(shè)備,其中氧鈦酞菁是晶體氧鈦酞菁,在CuKα特征性X-射線(波長(zhǎng):)的X-射線衍射波譜中,在布喇格角(2θ±0.2°)為7.3°、9.4°、9.6°和27.2°處具有主峰,其中由9.4°和9.6°處的峰交疊而形成的峰束是最大的峰,以及在27.2°處的峰是第二大的峰。
3.權(quán)利要求1中所述的圖像形成設(shè)備,其中所述曝光裝置用于高印刷分辨率的印刷。
4.權(quán)利要求1中所述的圖像形成設(shè)備,其中所述曝光裝置是藍(lán)色半導(dǎo)體激光器。
5.權(quán)利要求1中所述的圖像形成設(shè)備,其中所述放電裝置是紅色LED。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于夏普株式會(huì)社,未經(jīng)夏普株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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